7月6消息,據(jù)DigiTimes報道,荷蘭光刻機(jī)大廠ASML正在考慮發(fā)布其深紫外光刻 (DUV) 設(shè)備的特殊版本,以便使得該設(shè)備符合美國及荷蘭最新的出口規(guī)則,并且無需許可證即可運送給中國客戶。
報道稱,該特別版DUV光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而NXT:?1980Di 是 10 年前推出的舊型號,不在限制范圍內(nèi)。
芯智訊在此前《荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備出口限制新規(guī)詳解》當(dāng)中有指出,荷蘭政府的對于DUV光刻機(jī)的限制要求是需要同時滿足最小可分辨特征尺寸小于或等于45nm和DCO值小于或等于1.50nm這兩個條件,因此,ASML的NXT1980系列(分辨率為38納米左右,但DCO值是小于等于1.6nm)依然可以不受荷蘭新規(guī)限制,不需要許可就能夠向中國出口。
ASML的聲明也表示,根據(jù)荷蘭新的出口管制條例規(guī)定,ASML TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)需要向荷蘭政府申請出口許可證才能出口。而目前有在售NXT1980系列則不受影響。
雖然去年10月美國出臺了對華半導(dǎo)體出口限制新規(guī),限制了可以被用于先進(jìn)制程邏輯芯片及先進(jìn)存儲芯片的美系半導(dǎo)體設(shè)備的對華出口。但是,ASML是荷蘭設(shè)備廠商,并不受該規(guī)則影響。今年1月,ASML CEO彼得·溫克寧就曾公開表示,可以不受限的向中國出口DUV光刻機(jī)。
或許正因為如此,隨后美國方面又開始向荷蘭施壓,要求荷蘭跟進(jìn)美國的新規(guī)。于是在今年7月1日,荷蘭正式出臺了聚焦于半導(dǎo)體設(shè)備的出口限制新規(guī)。
但是,荷蘭方面的新規(guī)也沒有限制ASML?NXT1980系列,也就是說NXT1980系列本就符合美國及荷蘭的新規(guī),那為何傳聞稱ASML還要考慮推出面向中國市場的“特供版”NXT 1980系列呢?
從DigiTimes的報道來看,還是糾結(jié)于NXT 1980系列有可能制造出先進(jìn)制程芯片。認(rèn)為ASML會推出更低分辨率版本的“特供版”NXT?1980系列,以避免相關(guān)問題。
據(jù)芯智訊了解,NXT:1980Di?雖然分辨率在38nm左右,但是通過多重曝光,依然可以支持到7nm左右。據(jù)說臺積電的第一代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實現(xiàn)的。但是這樣做,步驟更為復(fù)雜,對技術(shù)要求高,成本也更高,良率可能也會有損失。實際上,目前國內(nèi)已有的NXT:1980Di 基本都是被用于45nm以下16nm以上的成熟制程的生產(chǎn)。
更何況,正如前面芯智訊所指出的,ASML現(xiàn)有的NXT 1980系列本就符合美國及荷蘭的新規(guī),可以不需要許可即可出口到中國,為什么還需要多此一舉針對中國市場推出進(jìn)一步閹割的NXT 1980版本?完全沒必要。純粹是灣灣的媒體在搞事!
所以,在今傍晚時候,ASML官方也對于這則傳聞進(jìn)行了辟謠。ASML回應(yīng)稱:ASML都遵守所適用的法律條例,公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機(jī)。
編輯:芯智訊-浪客劍