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作者：九林

1984年4月1日愚人節(jié)這一天，飛利浦和跟荷蘭的一家小公司合資，成了一家新公司。新公司的縮寫叫ALS，跟漸凍癥的縮寫是一樣的。一直到1996年，這家公司改名叫ASML。

也就是現(xiàn)在，大名鼎鼎的ASML。今年，ASML的High NA EUV光刻機成為設備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標準 EUV 光刻機的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。

ASML光刻巨頭的生意風生水起，今年ASML又賣了多少臺光刻機？

?01、ASML有哪些光刻機？

想要知道ASML究竟賣了多少光刻機，首先要簡單了解一下這個光刻巨頭到底造了哪些類型的光刻設備。

ASML的成長史，可以說是光刻機迭代史。

PAS 2000、PAS 2500的起步階段

我們回到最初的1984年，新生的ASML呱呱墜地。當時ASML的產(chǎn)品只有16臺飛利浦當作庫存的PAS 2000。但這款光刻機采用油壓傳動臺，有著巨大的缺陷，沒有客戶看得上。在發(fā)現(xiàn)了PAS 2000問題后，ASML決定開發(fā)新一代采用電動晶圓臺的光刻機，型號PAS 2500。1986年推出非常棒的第二代產(chǎn)品PAS 2500，并第一次賣給美國當時的創(chuàng)業(yè)公司賽普拉斯（Cypress）。1988年，飛利浦將MEGA生產(chǎn)線搬到了臺積電，結(jié)果突發(fā)一場火災。于是臺積電想ASML采購了17臺PAS 2500，成為了ASML的最大客戶。正是因為這些訂單，AMSL終于開始盈利了。

PAS 5500，一戰(zhàn)成名

PAS 5500是ASML的成名之戰(zhàn)，1991年發(fā)布，能夠?qū)崿F(xiàn)掃描式光刻。這時候IBM宣布將成為第一家在8英寸晶圓上制造芯片的公司。PAS 5500通過了IBM的產(chǎn)業(yè)驗證，實現(xiàn)了小批量交付。PAS 5500按照模塊化設計，客戶可以根據(jù)不同工藝隨意選配不同部件包，包括：55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C等等等，涵蓋了各種光源（i線和KrF），各種尺寸（4-12英寸），各種鏡頭（i線和KrF鏡頭），各種投影模式（stepper/scanner）。這就使得一臺設備能夠?qū)崿F(xiàn)百花齊放。PAS 5500的戰(zhàn)績不止于IBM，三星裝機第一臺PAS 5500后生產(chǎn)出了250nm工藝的16Mb存儲器。SK 海力士在1996年裝機后，1998年直接成為了AMSL的最大客戶。

TWINSCAN 和浸沒式技術(shù)

時間來到了1990年代末，光刻機的波長也從248nm進入到193nm，這就是著名的ArF準分子激光器。產(chǎn)業(yè)在193nm波長上卡了近20年。干式193nm光刻機的極限工藝是65nm，再往下就很難實現(xiàn)了。產(chǎn)業(yè)內(nèi)提出了各種超越193nm的方案，相對而言157nm技術(shù)難度稍低。這時候，AMSL收購了美國光刻機廠商AVG，儲備了157nm和EUV光刻機。直到2002年，在157nm技術(shù)研討會上，臺積電的林本堅提出了浸沒光刻技術(shù)，找到了134nm波長，一石激起千層浪。雖然浸入式光刻機的構(gòu)思非常巧妙，但從工程角度看，它并不難完成。ASML很快就按照設計制造出了134納米波長光源的浸入式光刻機，TWINSCAN AT:1150i 。2006年ASML推出了第一臺批量生產(chǎn)的浸入式機器 XT:1700i。2008年又推出了TWINSCAN NXT:1950i可用于32納米芯片的量產(chǎn)，并迅速推動ASML開發(fā)出一系列用于亞32納米制程節(jié)點的光刻系統(tǒng)，包括NXT:1960i、NXT:1965i、NXT:1970i等。

改變時代的EUV

為了鞏固地位，AMSL在開發(fā)浸入式光刻機的同時，就已經(jīng)向極紫外光源發(fā)起挑戰(zhàn)。它摸索出了一種新的EUV產(chǎn)生方法：用激光轟擊錫珠，讓其化為等離子態(tài)，從而產(chǎn)生EUV?；谶@個方法，ASML于2010年推出了第一臺EUV樣機。不過，將樣機變?yōu)榭梢凿N售的商品還需要很多投入，預期的投入可能達到每年10億歐元，以ASML的財力并沒有能力獨自完成這一切。為了解決這個問題，它邀請了英特爾、三星和臺積電入股共同研發(fā)。終于，在2013年，量產(chǎn)的EUV光刻機NEX:3300B面世了——也就在這一年，溫寧克和范登布林克接過了公司的領(lǐng)導權(quán)。之后，AMSL于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，將光刻機的制程（即最小的電路柵格間距離）從7納米推到了5納米。2020年初，AMSL發(fā)貨了第100臺EUV光刻機。再到2023年，再次推出了High NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5000。從AMSL的路線圖來看，在2025年還要推出將新一代High-NA EUV系統(tǒng)EXE:5200。

?02、ASML賣了多少光刻機？

筆者翻閱ASML財報，整理了其自2012年開始的出貨數(shù)據(jù)。ASML出貨與其不斷成長的光刻歷程息息相關(guān)。

DUV光刻機，出貨量的主力軍

ASML 2012-2023光刻機出貨量

如果按照光源類型劃分，不僅有EUV光刻機，還有ArF浸入式光刻機、ArF干式光刻機、KrF光刻機、i-line設備等。其中，ArF、ArF和KrF都屬于深紫外線光刻機(DUV)，這也是當前半導體制造的主力。從2012年到2023年，ASML出貨量2235臺DUV光刻機。從2012年的出貨量來看，ArFi和KrF等深紫外線光刻機(DUV)出貨量遠超EUV光刻機。畢竟，如前文鎖述，能夠量產(chǎn)的EUV也是在2013年才正式亮相。

從上圖來看，ArFi出貨數(shù)量一直保持在70-80臺左右，但2023年出現(xiàn)了暴漲，直接出貨125臺。KrF出貨量原先也一直維持在70左右，但從2020年開始每年增長近30臺左右。2020、2023這兩個時間節(jié)點大家都不陌生。

在2023年末，荷蘭和美國最新頒布的出口管制法規(guī)已經(jīng)生效。當時阿斯麥首席財務官Roger Dassen表示：“2024年我們將不會獲得向中國發(fā)運NXT:2000i及以上浸潤式設備的出口許可證，此外，個別中國先進芯片制造晶圓廠將無法獲得發(fā)運NXT:1970i和NXT:1980i浸潤式設備的許可證。”2023年，ASML賣了449臺光刻機，其中有53臺是EUV光刻機，396臺是DUV光刻機。2023年DUV光刻機的出貨量，很大一部分來自于中國市場。EUV光刻機，轉(zhuǎn)折點在2022

ASML 2012-2023 光刻機凈銷售額（單位：億歐元）

從2012年-2023年，AMSL一共出貨了233臺EUV光刻機。百位數(shù)的EUV光刻機的出貨量對比千位數(shù)的DUV光刻機?？梢哉f，出貨數(shù)量少的可憐，但架不住EUV高昂的價格。ASML 目前在售的雙工件臺 EUV 光刻機單價約 1.2 億美元至 1.5 億美元左右。而其新一代高 NA EUV 光刻機造價更是高達 3 億至 3.5 億歐元（約合人民幣 21.95 億至 25.61 億元）。

從上圖來看，自2019年開始，ASML的EUV光刻機銷售額出現(xiàn)了較大的增長，而自2020年銷售額達到44億歐元后，直接超過了當年的ArFi光刻機的銷售額（40億歐元）。

從此之后，EUV光刻機的銷售額就一騎絕塵。即使2023年，ArFi光刻機出貨數(shù)量爆增到125臺，賣出的價格也只有86億歐元。EUV光刻機的總銷售額還超過其5個億歐元。

地區(qū)營收，誰購買了最多的光刻機？

ASML 地區(qū)出貨銷售額（單位：億歐元）

2012年開始，韓國、中國臺灣地區(qū)、美國對于ASML光刻機的購買力是比較強的。當時中國大陸被列為亞洲其他地區(qū)，進而計算銷售額。自2015年后，由于中國大陸購買金額增長，被ASML財報再單拎出來，以上2015年后的亞洲其他地區(qū)數(shù)據(jù)實際為中國大陸的數(shù)據(jù)。

上圖中，中國臺灣地區(qū)對于光刻機的購買需求始終旺盛，基本是占了大頭。但也不難理解，臺積電作為全球第一的晶圓大廠，其資本支出一直是頂尖的。

可以看到，從2019年到2020年，ASML對中國臺灣的銷售額有明顯上漲。對比當時的歷史來看，這個是節(jié)點臺積電正開始量產(chǎn)7nm+制程（也就是EUV 版的 7nm），因此銷售金額增長不足為奇。

韓國的光刻機購買金額，從2018年到2019年有一個巨大的下滑，但需要注意的是，其2017年、2018年的金額達到30億歐元，相較之前15億歐元翻了一倍。2019年正是上一個中國大陸地區(qū)對于光刻機的購買金額一直維持在20億歐元左右，但2023年暴漲了61億歐元，再次印證了前文所述，大陸只能在禁令下來前，現(xiàn)行購買部分光刻機。