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EUV光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。

極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。收起

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  • 日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    近日,芯片制造領(lǐng)域傳來重大消息:Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機,成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導體公司。這一舉措無疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。
  • 深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭,爭相導入或宣布市場進展,預示著半導體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前,英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難?
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難?
    雖然表面上看,光刻機是半導體制造的工具之一,但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線(EUV)光源,而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”,但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作,還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
  • ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML營收額的增長勢頭可能將迎來急剎車。荷蘭費爾德霍芬時間10月15日,ASML發(fā)布2024年第三季度財報,財報顯示,2024年第三季度,ASML實現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元,環(huán)比增長19.6%;凈利潤達20.77億歐元,環(huán)比增長31.6%,二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來的歷史新高。然而,該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元,環(huán)比減少52.7%,不及市場預期的54億歐元的一半,接近2021年第一季度以來的歷史低值(2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元)。
  • ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元,凈利潤為21億歐元
    ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元,凈利潤為21億歐元
    阿斯麥(ASML)今日發(fā)布2024年第三季度財報。2024年第三季度,ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元,毛利率為50.8%,凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2,其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間,毛利率介于49%到50%,2024年全年的凈銷售額約為280億歐元。ASML還預計,2025年的凈銷售額在300億至
  • 日本提出EUV光刻新方案:光源功率可降低10倍,成本將大幅降低!
    日本提出EUV光刻新方案:光源功率可降低10倍,成本將大幅降低!
    8月7日消息,近日日本沖繩科學技術(shù)大學(OIST)的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團隊提出了一項全新、大幅簡化的面向極紫外(EUV)光刻機的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置,新的光學投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡,在確保系統(tǒng)維持較高的光學性能的同時,能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達晶圓,相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說,提了高到了原來的10倍,可說是一大突破。
  • 從EUV光刻機到你的牙齒:悄然發(fā)力的中國3D打印
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    從2納米到40微米,從光刻機到人的牙齒,有著怎樣的關(guān)系?在小紅書上,有一批“網(wǎng)紅”正在爭相試用一款操作起來“像做美甲一樣便捷”的牙齒貼面產(chǎn)品。
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    上期文章中,我們列舉了ASML的G線,i線光刻機型號,見文章:ASML的光刻機型號匯總(上)本期,我們要羅列下ASML的EUV光刻機的型號及主要技術(shù)參數(shù)。
  • EUV光刻機有多牛?
    華為的麒麟990系列芯片、蘋果手機的A14處理器(5納米工藝)以及M1處理器以及三星的Exynos 9825處理器都是用EUV光刻機生產(chǎn)出來的。換句話說,7納米以下的芯片,沒有EUV光刻機造不出來!
  • 近500億元!EUV光刻機巨頭掙翻了
    近500億元!EUV光刻機巨頭掙翻了
    7月17日,全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥(ASML)公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù),ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元(約491億元人民幣),凈利潤為15.78億歐元,毛利率 51.5%,第二季度凈預訂量為55.67億歐元,其中25億歐元為EUV預訂額。不過相比去年同期的營收69億歐元、凈利潤19.4億歐元,ASML今年第二季度業(yè)績不及當時水平。
  • 存儲市場吹響EUV光刻機集結(jié)號
    存儲市場吹響EUV光刻機集結(jié)號
    AI浪潮下,存儲市場DRAM芯片正朝著更小、更快、更好的方向發(fā)展,EUV光刻機擔當重任。三大DRAM原廠中有兩家已經(jīng)引進EUV光刻機生產(chǎn)DRAM芯片,美光相對保守,不過也于今年將在1γ(1-gamma)制程進行EUV技術(shù)試產(chǎn),三大原廠集結(jié),存儲市場EUV光刻機時代開啟。
  • 晶圓代工廠“頭疼”?阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
    晶圓代工廠“頭疼”?阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
    近日,據(jù)朝鮮日報報道,阿斯麥(ASML)將針對1納米以下制程,計劃在2030年推出更先進Hyper-NA EUV光刻機設(shè)備,但可能超過7.24億美元一臺的售價會讓臺積電、三星、英特爾等半導體晶圓代工廠商望而卻步。
  • EUV光刻機變數(shù)陡增
    EUV光刻機變數(shù)陡增
    最近,關(guān)于EUV光刻機,又有勁爆消息傳出。據(jù)外媒報道,有消息人士透露,由于美國施壓,ASML向荷蘭政府官員保證,在特殊情況下,該公司有能力遠程癱瘓(remotely disable)臺積電使用的EUV光刻機。知情人士稱,ASML擁有“鎖死開關(guān)”(kill switch),可以遠端強制關(guān)閉EUV。
  • ASML最先進的光刻機,花落誰家?
    ASML最先進的光刻機,花落誰家?
    4月上旬,全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E,該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑,旨在滿足未來幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求,包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F,預計將于2026年左右發(fā)布。
  • High-NA EUV光刻機入場,究竟有多強?
    High-NA EUV光刻機入場,究竟有多強?
    光刻機一直是半導體領(lǐng)域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機(DUV)起步,其穩(wěn)定可靠的性能為半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ);再到后來的極紫外光刻機(EUV)以其獨特的極紫外光源和更短的波長,成功將光刻精度推向了新的高度;再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機(High-NA)正式登上歷史舞臺,進一步提升了光刻的精度和效率,為制造更小、更精密的芯片提供了可能。
  • 史上最大光刻機拆箱視頻發(fā)布!
    史上最大光刻機拆箱視頻發(fā)布!
    3月7日報道,最近英特爾芯片制造業(yè)務(wù)一片向好,狀態(tài)可謂是春風得意、喜上眉梢,一大原因是,價值近4億美元的全球第一臺High-NA EUV光刻機已經(jīng)進入了英特爾的工廠。
  • 2nm情結(jié)
    2nm情結(jié)
    一輛載著印有“ASML”LOGO保護箱的卡車駛?cè)朊绹砝諏荩∣regon)的英特爾希爾斯伯勒(Hillsboro)園區(qū)。箱身上綁著紅繩,并系了蝴蝶結(jié),里面是荷蘭ASML研制出的全球首臺高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(High NA EUV)的一部分。

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