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光罩

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光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型復制於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像復制至相片上。

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型復制於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像復制至相片上。收起

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