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LG 顯示（以下 LGD）通過(guò)產(chǎn)學(xué)合作孵化課題支援，聯(lián)手延世大學(xué) Shim Uyeong（新材料工學(xué)科）教授團(tuán)隊(duì)，開(kāi)發(fā)出革新性新面板技術(shù)。研發(fā)成果刊登于國(guó)際學(xué)術(shù)期刊 Nature Communications。
根據(jù)韓媒 inews24 報(bào)道，研究團(tuán)隊(duì)利用柔性透明的新型 Photo 光罩實(shí)現(xiàn)了超精細(xì) Pattern，是一種全新的光刻（Photolithography）技術(shù)。此技術(shù)可應(yīng)用至 LCD 和 OLED 制程。
圖：延世大學(xué) Shim Uyeong 教授
光刻（Photolithography）技術(shù)是指半導(dǎo)體和面板制程中，將光刻膠（Photo resist）感光液薄涂于晶圓或玻璃上，然后將繪制 Pattern 的光罩置于其上，通過(guò)照光形成電路的技術(shù)。而此電路的成型，主要取決于稱之為 Photo mask 的核心部件。
研究團(tuán)隊(duì)為了克服傳統(tǒng)光罩的硬性特征，開(kāi)發(fā)出柔性、透明的新光罩制程，利用原有曝光設(shè)備實(shí)現(xiàn)了 100 分之 1 水平的數(shù)十納米單位超精細(xì) Pattern。
超精細(xì) Pattern 繪制出的電路是面板實(shí)現(xiàn)超高像素不可或缺的關(guān)鍵。而柔性材質(zhì)的光罩，還可應(yīng)用于曲面基板，將有助于多種形態(tài)的面板生產(chǎn)。
論文的共同作者 LGD Jang Giseok 博士表示：本次開(kāi)發(fā)出的新光刻技術(shù)是一種可以為未來(lái)面板技術(shù)帶來(lái)巨大貢獻(xiàn)的種子（Seeds）技術(shù)。
LGD 是從 2015 年起進(jìn)行面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展‘LGD- 延世大學(xué)孵化器’項(xiàng)目。是一種企業(yè)和高校共同搜集面板技術(shù)和產(chǎn)品相關(guān)的新概念，并從產(chǎn)業(yè)化角度進(jìn)行企劃、研發(fā)、驗(yàn)證的項(xiàng)目。
延世大學(xué) Shim Uyeong 教授認(rèn)為：此研發(fā)成果的主要意義在于，研發(fā)出可以克服光折射限制的光刻技術(shù)，除了平面以外，也可應(yīng)用至曲面基板，期待未來(lái)可以應(yīng)用到多樣化形態(tài)的元器件制程。
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