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光掩膜板

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  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV(極紫外光)掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一,在集成電路的光刻過程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求,掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中,清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少,但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜,主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
  • 我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    我國超精細金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩,OLED面板用超精細金屬掩膜版(FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量,是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進入門檻很高、市場依賴性強,成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
  • 光罩(Mask/掩膜版)的系統(tǒng)性講解
    光罩(Mask/掩膜版)的系統(tǒng)性講解
    光罩(Mask),也稱為掩膜版,是集成電路(IC)制造過程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具,光罩將設(shè)計好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面,其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。
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    11/29 11:20
  • 光刻掩膜版用什么藥液來洗?
    學(xué)員問:光罩臟了,該如何清洗,洗的頻率如何?用了什么原理?掩膜版(光罩)為什么會臟?以投影式光刻機與接觸式光刻機為例,關(guān)于投影式與接觸式光刻機見之前的文章:《什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機?》
  • 產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲?
    產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲?
    光掩膜在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用,彰顯了其在技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級進程中的核心角色。伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日新月異,對光掩模的技術(shù)標準亦隨之不斷提升,這一趨勢持續(xù)驅(qū)動著光掩模技術(shù)的深入發(fā)展與持續(xù)創(chuàng)新。
  • EUV掩膜版用什么材質(zhì)做的?
    學(xué)員問:聽說EUV的掩膜版是反射式的,但是我們常見的掩膜版都是透射式的,為什么會這樣?EUV掩膜版結(jié)構(gòu)麻煩介紹下。
  • FMM為高世代OLED競爭蓄勢
    FMM為高世代OLED競爭蓄勢
    在OLED大尺寸化浪潮下,上游關(guān)鍵核心材料——FMM(精細金屬掩模版)也開始為適配8代OLED面板作準備。日本材料廠商DNP(大日本印刷)、韓國材料廠商Poongwon Precision(豐元精密)先后宣布布局8代FMM。我國金屬掩膜版材料企業(yè)也在默默蓄力。8代FMM真的要來了?
  • ?市場規(guī)模接近全球六成,我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    ?市場規(guī)模接近全球六成,我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    掩膜版又稱光罩、光掩膜,是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材,從應(yīng)用角度看,主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進一步向中國轉(zhuǎn)移,以及在高世代、高精度市場需求的帶動下,2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比有望超過60%。不過業(yè)內(nèi)人士強調(diào),盡管我國掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快,但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況,關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。
  • 掩模版
    掩模板,又稱掩膜、掩?;騧ask,是一種在微電子制造過程中用來形成圖案和結(jié)構(gòu)的工具。它扮演著將指定圖形投影到半導(dǎo)體器件上的關(guān)鍵角色。

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