光掩膜板

• EUV掩膜版清洗技術挑戰(zhàn)及解決方案
  

  EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導體制造工藝中關鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關重要的角色。由于EUV技術的精密性和高要求，掩膜版的質量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。

  老虎說芯

  375

  12/26 08:38

  EUV 光掩膜板

正在努力加載...