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光掩膜板

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  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
  • 我國超精細(xì)金屬掩膜版材料獲得新突破
    我國超精細(xì)金屬掩膜版材料獲得新突破
    薄如蟬翼、貴過黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細(xì)金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進(jìn)入門檻很高、市場依賴性強，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。
  • 光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
    光罩（Mask/掩膜版）的系統(tǒng)性講解
    光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具，光罩將設(shè)計好的電路圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面，其質(zhì)量直接決定了芯片制造的精度和性能。
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    11/29 11:20
  • 光刻掩膜版用什么藥液來洗？
    學(xué)員問：光罩臟了，該如何清洗，洗的頻率如何？用了什么原理？掩膜版（光罩）為什么會臟？以投影式光刻機與接觸式光刻機為例，關(guān)于投影式與接觸式光刻機見之前的文章：《什么是接觸式/接近式/投影式/步進(jìn)式光刻機？》
  • 產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
    產(chǎn)業(yè)丨光掩膜大漲？
    光掩膜在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，彰顯了其在技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級進(jìn)程中的核心角色。伴隨著半導(dǎo)體技術(shù)的日新月異，對光掩模的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)亦隨之不斷提升，這一趨勢持續(xù)驅(qū)動著光掩模技術(shù)的深入發(fā)展與持續(xù)創(chuàng)新。
  • EUV掩膜版用什么材質(zhì)做的？
    學(xué)員問：聽說EUV的掩膜版是反射式的，但是我們常見的掩膜版都是透射式的，為什么會這樣？EUV掩膜版結(jié)構(gòu)麻煩介紹下。
  • FMM為高世代OLED競爭蓄勢
    FMM為高世代OLED競爭蓄勢
    在OLED大尺寸化浪潮下，上游關(guān)鍵核心材料——FMM（精細(xì)金屬掩模版）也開始為適配8代OLED面板作準(zhǔn)備。日本材料廠商DNP（大日本印刷）、韓國材料廠商Poongwon Precision（豐元精密）先后宣布布局8代FMM。我國金屬掩膜版材料企業(yè)也在默默蓄力。8代FMM真的要來了？
  • ?市場規(guī)模接近全球六成，我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    ?市場規(guī)模接近全球六成，我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
    掩膜版又稱光罩、光掩膜，是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材，從應(yīng)用角度看，主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步向中國轉(zhuǎn)移，以及在高世代、高精度市場需求的帶動下，2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比有望超過60%。不過業(yè)內(nèi)人士強調(diào)，盡管我國掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況，關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。
  • 光刻掩膜版測溫儀 光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀
    光刻掩膜版測溫儀 光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀
    合肥智測電子有限公司是一家專注于實驗室 高精度測溫儀模塊、溫度變送器 、溫度傳感器、 溫濕度測量檢測記錄、車間工程使用 、環(huán)境潔凈工程、注塑涂裝無塵室、研發(fā)生產(chǎn)計量校驗儀器設(shè)備、測溫儀模塊、溫度檢測儀器、傳感器等，為用戶提供可靠高效的解決方案
  • 光刻掩模版相關(guān)產(chǎn)品供應(yīng)商列表
    光刻掩模版相關(guān)產(chǎn)品供應(yīng)商列表
    在所有半導(dǎo)體制造工藝環(huán)節(jié)里，光刻工序往往是技術(shù)含量最高和最重要的。大家在研究光刻工藝時一般主要把關(guān)注點放在了光刻機和光刻膠等領(lǐng)域，其次時光刻膠配套試劑。而關(guān)于光刻掩模版的討論相對少很多。所以我這次特意整理了一下光刻掩模版及相關(guān)配套產(chǎn)品的供應(yīng)商信息，供大家參考
  • 掩膜板供需亮紅燈，半導(dǎo)體光掩膜板罕見全面漲價5%~25%
    半導(dǎo)體制程所需的Photo Mask供需亮起了紅燈。由于供應(yīng)不足，價格上漲，交貨時間被推遲。本就無望緩解的半導(dǎo)體供需難問題將進(jìn)一步加重。
  • 掩模版
    掩模板，又稱掩膜、掩?；騧ask，是一種在微電子制造過程中用來形成圖案和結(jié)構(gòu)的工具。它扮演著將指定圖形投影到半導(dǎo)體器件上的關(guān)鍵角色。

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