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產(chǎn)研 | 全球及國內(nèi)晶圓代工業(yè)產(chǎn)能、投資和發(fā)展態(tài)勢

2022/01/14
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閱讀需 18 分鐘
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作為全球最重要的戰(zhàn)略物資之一,芯片的價(jià)值正在日趨緊張的地緣政治環(huán)境中,推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全球化結(jié)構(gòu)的變化。雖然至少目前,還不太會出現(xiàn)一個(gè)“完全自給自足的本地供應(yīng)鏈”——這意味著至少萬億美元級的增量資金和高昂的芯片價(jià)格以及最終電子設(shè)備成本的增加——但當(dāng)涉及到半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的安全時(shí),芯片,尤其是芯片制造業(yè)就成為一個(gè)主要的焦點(diǎn)。

芯片制造業(yè)分為純晶圓代工IDM兩類,前者因其開放式的商業(yè)模式成為半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的主力,與非研究院將就目前全球和中國國內(nèi)的晶圓代工業(yè)現(xiàn)狀,從產(chǎn)能、投資以及發(fā)展態(tài)勢等幾個(gè)方面進(jìn)行梳理。

市場規(guī)模擴(kuò)張推動產(chǎn)能和投資增長

近兩年,受網(wǎng)絡(luò)和數(shù)據(jù)中心計(jì)算機(jī)、5G智能手機(jī)和其他如機(jī)器人、自動駕駛、AI等高增長應(yīng)用市場對先進(jìn)處理器的強(qiáng)勁需求,晶圓制造市場增長強(qiáng)勁。IC Insights的報(bào)告預(yù)計(jì),2021年晶圓制造市場總銷售額將首次突破1000億美元大關(guān),達(dá)到1072億美元,增長23%,并將繼續(xù)以年均11.6%的增長速度持續(xù)增長,直至2025年,預(yù)計(jì)總銷售額將達(dá)到1512億美元。

全球晶圓制造市場增長情況

全球晶圓制造市場增長情況
來源:
IC Insights

這一趨勢體現(xiàn)出新興應(yīng)用市場的驅(qū)動力,而今年全球的缺芯潮,則進(jìn)一步刺激了各大晶圓廠的產(chǎn)能擴(kuò)張。根據(jù)SEMI的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),全球半導(dǎo)體制造商在2021年和2022年將新建29座工廠,其中19座在2021年底前開建,2022年再建10座,以滿足市場對芯片的日益增長的需求。

全球新廠房建設(shè)

全球新廠房建設(shè)
來源:
SEMI

如圖所示,從區(qū)域分布看,中國大陸和中國臺灣地區(qū)將在新的廠房建設(shè)中領(lǐng)先,分別為8座;其次是美洲6座;歐洲/中東3座;日本和韓國各2座。這些新建工廠中,300mm(12英寸)廠占據(jù)主力——2021年15座,2022年7座。其余7個(gè)工廠包括100mm(4英寸),150mm(6英寸)和200mm(8英寸)。

這29家工廠全部建成投產(chǎn)后,每月可生產(chǎn)多達(dá)260萬片晶圓(等效8英寸)。

從類別看,這29座工廠中,有15座是晶圓廠,月產(chǎn)能在3萬~22萬片晶圓之間(等效8英寸);4座是存儲工廠,月產(chǎn)能在10萬~40萬片晶圓(等效8英寸)。

雖然產(chǎn)能總體在擴(kuò)張,但不同尺寸晶圓產(chǎn)能擴(kuò)張趨勢不同。就占比而言,12英寸居于首位,而8英寸在2020年僅占4%,今年受缺芯拉動,上升至6%,預(yù)計(jì)2022年仍將維持這一比例。

2018-2022年全球不同尺寸晶圓產(chǎn)能占比

2018-2022年全球不同尺寸晶圓產(chǎn)能占比
來源:
SEMI

事實(shí)上,今年的缺芯——模擬IC、電源管理IC、顯示驅(qū)動IC、功率組件MOSFET、MCU傳感器等——主要都集中在8英寸產(chǎn)能,暴露出產(chǎn)能的不足。由于12英寸晶圓產(chǎn)線的投資回報(bào)率更高,因而近幾年各制造工廠對8英寸產(chǎn)能投入一直有限,從目前的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)看,這一現(xiàn)況也不會因?yàn)楸据喨必浂鴱母旧细淖?。根?jù)SIA的預(yù)測,從2020年到2024年,全球8英寸晶圓產(chǎn)能的增長僅17%。

2020-2024年全球8寸產(chǎn)能僅增長17%

2020-2024年全球8寸產(chǎn)能僅增長17%
來源:
SIA

針對8英寸晶圓代工產(chǎn)能,DIGITIMES Research統(tǒng)計(jì)了全球前十大晶圓代工廠2018年至2021年相關(guān)產(chǎn)能增加情況??梢钥吹?,除了力晶因業(yè)務(wù)轉(zhuǎn)型(由DRAM制造轉(zhuǎn)型至晶圓代工)產(chǎn)能增加過兩位數(shù)外,其余都十分有限。尤其是排名前兩位的臺積電和聯(lián)電,都不超過3%,排名第三的中芯國際,也不過6.1%。前十大晶圓代工廠8英寸晶圓代工產(chǎn)能的年復(fù)合增長率平均只有4.2%。

 8英寸產(chǎn)能增長有限

8英寸產(chǎn)能增長有限
來源:
DIGITIMES Research
整理:與非研究院

不同于8英寸晶圓代工產(chǎn)能的低增長,12英寸產(chǎn)能擴(kuò)張十分積極,預(yù)計(jì)到2022年,年復(fù)合增長率將超過8%。

2020-2022年全球12英寸產(chǎn)能增長率

2020-2022年全球12英寸產(chǎn)能增長率
來源:
SEMI
整理:與非研究院

伴隨產(chǎn)能擴(kuò)張趨勢的,是產(chǎn)能利用率的攀升。從2019年開始,全球8英寸和12英寸晶圓代工廠的產(chǎn)能利用率一路上揚(yáng),在2020年后雙雙超過90%。而8英寸之前在2016年觸達(dá)滿載后曾一路下滑,到2019年跌至85%左右,此輪重新上揚(yáng),主因應(yīng)該還是缺芯。

全球晶圓代工及產(chǎn)能利用率

全球晶圓代工及產(chǎn)能利用率
來源:
Omdia、天風(fēng)證券研究所

雖然,全球各地區(qū)都在擴(kuò)張產(chǎn)能,但在制程上存在明顯的差異。10nm以下的先進(jìn)制程集中在中國臺灣和韓國,且二者占據(jù)了全球總產(chǎn)能的41.8%,近乎一半,其余產(chǎn)能則幾乎被中國大陸(15.3%)、日本(15.8%)和北美(12.6%)所覆蓋。

中國大陸在180nm~10nm制程區(qū)間產(chǎn)能占比較為均衡(20.5%~14.8%),中國臺灣在20nm~10nm區(qū)間只占9.9%,韓國產(chǎn)能除10nm制程,在40nm~10nm區(qū)間產(chǎn)能占也比較高(27.3%和29.3%),日本則在20nm~10nm區(qū)間有較高占比(23.6%)。

全球不同制程產(chǎn)能區(qū)域分布

全球不同制程產(chǎn)能區(qū)域分布
來源:
IC Insights

這些制程產(chǎn)能的區(qū)域分布,也反映出這些地區(qū)半導(dǎo)體產(chǎn)品的側(cè)重和不同。雖然,由于芯片短缺,芯片供應(yīng)商與代工廠簽訂了多年合同,使得代工廠2021年的收入增長了22.6%,達(dá)到950億美元,并將在2022年繼續(xù)增長11.9%,但之后全球產(chǎn)能利用率將出現(xiàn)下滑。Gartner預(yù)測資本支出的增加將導(dǎo)致2024年和2025年全球晶圓產(chǎn)能供過于求,工廠產(chǎn)能利用率將下降到80%以下。

產(chǎn)能的擴(kuò)張很大一部分來自晶圓廠的擴(kuò)建,而晶圓廠的建設(shè)周期非常長,從開工到量產(chǎn)至少要2年時(shí)間。晶圓廠每層面積可達(dá)3~4萬平米甚至更多,比6個(gè)橄欖球球場的面積還要大,每個(gè)工廠投入的金額至少是100~150億美元,而且運(yùn)營成本也非常高,一年約為10-30億美元,同時(shí),要滿足摩爾定律的需求,一個(gè)工廠每年還要進(jìn)行30~50億美元的固定資產(chǎn)投入。

總而言之,半導(dǎo)體制造,是一個(gè)燒錢的行業(yè),產(chǎn)能的擴(kuò)張意味著巨大的投入。僅上文提及的這29家新建工廠的設(shè)備的支出預(yù)計(jì)在未來幾年就將超過1400億美元。單就廠房建筑開支而言,2021年的19個(gè)在建項(xiàng)目的投入是160億美元(同比增長31%),2022年的10個(gè)新增項(xiàng)目建筑開支達(dá)238億美元,增長達(dá)到驚人的45%,創(chuàng)有記錄以來最高。

因此,半導(dǎo)體制造不僅是技術(shù),也是財(cái)力的比拼。

全球區(qū)域各制程可量產(chǎn)晶圓廠數(shù)量比較

全球區(qū)域各制程可量產(chǎn)晶圓廠數(shù)量比較
來源:
與非研究院整理

針對產(chǎn)業(yè)投資對應(yīng)的資本支出,ICInsight統(tǒng)計(jì)的數(shù)據(jù)顯示,全球半導(dǎo)體資本支出在2021年有望飆升34%,這是自2017年增長41%以來的最大增幅。今年的支出是1520億美元,超過了去年創(chuàng)下的1131億美元的歷史最高紀(jì)錄。

2019年~2021年全球半導(dǎo)體資本支出占比情況

2019年~2021年全球半導(dǎo)體資本支出占比情況
來源:
ICInsight

如圖所示,在2021年的投資中,晶圓代工廠占所有半導(dǎo)體資本支出的35%,居于首位。自2014年以來,晶圓代工廠每年都在半導(dǎo)體資本支出中占最大份額,只有兩個(gè)例外:2017年和2018年,當(dāng)時(shí)DRAM和閃存的資本支出激增。隨著應(yīng)用市場對采用先進(jìn)工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)制造的芯片的需求不斷增加,晶圓代工廠的支出已經(jīng)變得非常必要。

對很多公司來說,這種支出的增長將持續(xù)到2022年。例如臺積電2021年的資本支出達(dá)到300億美元,比2020年增長74%。而該公司在2021年3月宣布,計(jì)劃在未來三年投資1000億美元,在2023年,其資本支出將達(dá)到350億美元。

臺積電7nm及以下先進(jìn)制程資本支出

臺積電7nm及以下先進(jìn)制程資本支出
來源:
與非研究院整理

同樣,三星2021年在半導(dǎo)體資本上花費(fèi)約300億美元。三星集團(tuán)宣布,計(jì)劃在未來三年投資240萬億韓元(合2100億美元),以擴(kuò)大業(yè)務(wù)。在2022年,三星的資本支出將達(dá)到320億美元。

另一個(gè)IDM巨頭英特爾計(jì)劃在2022年在資本支出上投入250億~280億美元,而2021年為180億~190億美元。該公司正在大力推動IDM 2.0戰(zhàn)略,目標(biāo)是重返全球晶圓制造領(lǐng)先地位,該戰(zhàn)略重點(diǎn)包括投入7nm以下先進(jìn)制程與先進(jìn)封裝技術(shù)布局,重啟晶圓代工業(yè)務(wù)并成立新的晶圓代工部門。根據(jù)支出計(jì)劃區(qū)間的中點(diǎn),英特爾資本支出在2021年和2022年將分別增長30%和43%。

高階制程的投資成本越來越大,相應(yīng)的,產(chǎn)能集中度也越來越高,僅上述三家合計(jì)就占半導(dǎo)體行業(yè)總資本支出的一半以上。如臺積電未來3年的1000億美元支出,超過80%是投在7nm以下制程。

各制程每5萬片晶圓月產(chǎn)能資本支出比較

各制程每5萬片晶圓月產(chǎn)能資本支出比較
來源:
與非研究院整理

由于先進(jìn)制程的投資規(guī)模越來越大,事實(shí)上,整個(gè)代工業(yè)的投資回報(bào)率在2011年~2018年一直在下降,直到2019年開始,7nm制程產(chǎn)能逐漸拉升,加上本輪缺貨提高了產(chǎn)能利用率,投資回報(bào)率才回到上升周期。

全球晶圓代工資本支出回報(bào)率

全球晶圓代工資本支出回報(bào)率
來源:
Omdia&天風(fēng)證券研究所

中國本土產(chǎn)能和投資增勢迅猛

如前文所述,在全球晶圓制造的產(chǎn)能擴(kuò)張中,中國大陸和中國臺灣地區(qū)將在新的廠房建設(shè)中領(lǐng)先(分別為8座),反映出中國本土的產(chǎn)能和投資正在處于高速增長的階段。這和國內(nèi)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展一致——過去5年,受政府政策、中美博弈和資本市場投資者的推動,中國半導(dǎo)體行業(yè)的投資增長了250%以上。

從工藝制程的發(fā)展看,從國家“十五”到“十三五”期間,國內(nèi)的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)經(jīng)歷了集成創(chuàng)新期(90nm~65nm)、創(chuàng)新突破期(45nm~32nm)和同步發(fā)展期(22nm~16nm),“十四五”期間發(fā)展重點(diǎn)則主要是16nm以下工藝與全球先進(jìn)制程的同步發(fā)展。

過去幾年,中國半導(dǎo)體制造業(yè)的規(guī)模持續(xù)增長,由2015年的900.8億元增長到2020年的2560.1億元,幾乎翻了三倍,年復(fù)合增長率達(dá)到23.2%。SIA預(yù)計(jì),到2030年,中國大陸的半導(dǎo)體產(chǎn)能將占全球的24%。

中國大陸2030年半導(dǎo)體產(chǎn)能占全球24%

中國大陸2030年半導(dǎo)體產(chǎn)能占全球24%
來源:
SIA

從國內(nèi)幾家頭部代工廠的計(jì)劃來看,未來幾年,新增產(chǎn)能將集中在8英寸和12英寸,而2023年起,中芯將進(jìn)一步增加14/16nm工藝的產(chǎn)能。

國內(nèi)主要代工廠產(chǎn)能計(jì)劃

國內(nèi)主要代工廠產(chǎn)能計(jì)劃
來源:
與非研究院

就產(chǎn)能區(qū)域分布看,國內(nèi)8/12英寸半導(dǎo)體產(chǎn)能(包括存儲IDM)集中在華東和華北,其次是華南。

中國國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)能分布
來源:
公開資料

而根據(jù)與非研究院的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù),目前,國內(nèi)本土的晶圓代工廠有25家(文末附企業(yè)名錄),從數(shù)量上看,廣東和上海并列第一,各有5座,其次是江蘇4座,浙江、四川和福建各3座,天津、湖北、北京、安徽和陜西各1座。

國內(nèi)本土晶圓代工廠分布
來源:
與非研究院

如前文所述,國內(nèi)的先進(jìn)產(chǎn)能幾乎都在近三年快速擴(kuò)張,背后同樣是巨額資本的加持。從Gartner統(tǒng)計(jì)的2021年全球前20大半導(dǎo)體產(chǎn)能投資規(guī)模(包括IDM)排名分析中可以看到,中國國內(nèi)的三家公司(中芯國際、長江存儲、長鑫)在金額上已經(jīng)排到6~8位。如果只看純晶圓代工廠,中芯國際排名將前移至第2位。

2021年全球前20大半導(dǎo)體產(chǎn)能投資規(guī)模

2021年全球前20大半導(dǎo)體產(chǎn)能投資規(guī)模
來源:
Garner

隨著新增項(xiàng)目和投資的持續(xù)增加,未來幾年,國內(nèi)代工廠預(yù)計(jì)仍將有較大的成長。不過中美博弈,也影響了國內(nèi)自主產(chǎn)能的擴(kuò)張進(jìn)度,以中芯國際為例,由于被列入美國黑名單,其2021年的資本支出預(yù)計(jì)將下降25%,至43億美元。

另外,本輪缺芯主要集中在8英寸產(chǎn)能,但由于投資回報(bào)率不高,目前8英寸產(chǎn)線沒有新廠的投資,大多數(shù)投資均為擴(kuò)產(chǎn),要徹底解決8英寸制程緊缺的問題,仍需要將8英寸的產(chǎn)能轉(zhuǎn)向12英寸——在相同條件下,后者產(chǎn)能較前者多2倍。例如中國臺灣力積電就已在使用12英寸晶圓為聯(lián)發(fā)科生產(chǎn)PMIC電源產(chǎn)品,華虹宏力也在用12英寸晶圓做BCD電源,合肥的晶合和廣州的粵芯等,也都在往12英寸轉(zhuǎn)移,以生產(chǎn)90nm以下或者55nm以下的產(chǎn)品。

總結(jié)

總體來看,中國本土半導(dǎo)體制造已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)能擴(kuò)張周期,未來十年晶圓代工的成長性顯著。與非研究院認(rèn)為,其中關(guān)鍵因素包括三個(gè):政策指引、投資拉動、市場和技術(shù)推動。

近幾年,在政策指引和投資拉動下,全國各地的半導(dǎo)體制造產(chǎn)線建設(shè)方興未艾,據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),自2014年以來,新開工建設(shè)的半導(dǎo)體制造項(xiàng)目達(dá)到20個(gè)以上(包括境外企業(yè)在境內(nèi)的項(xiàng)目),全部建成投產(chǎn)后,月產(chǎn)能將達(dá)到150~170萬片。

中國新增制造項(xiàng)目及投資

中國新增制造項(xiàng)目及投資
來源:
與非研究院整理

由于在近兩年日趨激烈的中美博弈中,半導(dǎo)體制造已成為核心競爭力的戰(zhàn)略支點(diǎn),因此兩國政府的政策制定者所設(shè)計(jì)的行動,都包括有針對性的激勵措施,鼓勵國內(nèi)投資生產(chǎn),以解決戰(zhàn)略差距,降低全球供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。

在去年12月15日的國務(wù)院常務(wù)會議中,特別提到“要加大對制造業(yè)助企紓困和發(fā)展的支持力度,扎實(shí)推動制造業(yè)從中低端向中高端邁進(jìn)?!辈⑼瞥隽讼蛑圃鞓I(yè)傾斜的減稅降費(fèi)政策, 加大研發(fā)費(fèi)用加計(jì)扣除、增值稅留抵退稅等政策力度。

從技術(shù)推動看,有兩個(gè)層面,一是阻力:目前國內(nèi)半導(dǎo)體制造在先進(jìn)工藝上還相差2-3代水平,而資金門檻、盈利困難、先進(jìn)設(shè)備的引進(jìn)等都有諸多制約。國內(nèi)目前14nm的產(chǎn)能基本集中在中芯國際、華力這兩家,且產(chǎn)能相對較小。半導(dǎo)體行業(yè)是一個(gè)非常市場化的產(chǎn)業(yè),產(chǎn)能、良率、成本都決定了競爭力,這些都是國內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)面臨的阻力,但也因此將推動國內(nèi)企業(yè)持續(xù)投入;

二是動力:后摩爾定律效應(yīng)對芯片性能提出了更高的要求,除了材料,創(chuàng)新的制造和封裝工藝都發(fā)揮著決定性的作用,因而在給半導(dǎo)體制造帶來挑戰(zhàn)的同時(shí)也給相關(guān)企業(yè)帶來了機(jī)遇。例如微縮技術(shù)、高密度、高能效、更高的性能等,這些也都給制造提供了多維的創(chuàng)新方向,這其中也必將給后發(fā)者提供彎道超車的機(jī)會。

附:國內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)名錄(不包括IDM和存儲)

國內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)名錄

來源:與非研究院

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電子產(chǎn)業(yè)圖譜

與非網(wǎng)內(nèi)容總監(jiān)。電子科技行業(yè)媒體人,熱衷于觀察產(chǎn)業(yè),沉湎于創(chuàng)新技術(shù)。好奇常駐,樂在其中。