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臺積電是全球規(guī)模最大的純代工廠，最近降低了公司 2017 年代工業(yè)務(wù)的營收預(yù)期。
臺積電目前正在致力于實現(xiàn)到 2018 年全面使用 EUV 光刻技術(shù)生產(chǎn) 7nm 芯片，這將對設(shè)備廠商在 2017 年的沉積和蝕刻設(shè)備銷售造成明顯的影響。
臺積電估計，整個半導(dǎo)體行業(yè) 2017 年的增長率為 7%，明顯低于 Gartner 估計的 12.3%，這意味著一些設(shè)備廠商的銷售情況將進一步惡化。
由于供應(yīng)鏈庫存的增加，2017 年 4 月 13 日，全球最大的純代工廠臺積電在其投資者會議上削減了 2017 年度代工業(yè)務(wù)的營收預(yù)期，并將全球代工業(yè)務(wù)的增長率從 7%降低到 5%。
2016 年，所有純代工廠的總體營收為 447 億美金，占到全球半導(dǎo)體行業(yè)總市值的 15.8%。除了老大臺積電之外，其它純代工廠包括但不限于格羅方德、聯(lián)電、中芯國際、Powerchip?Technology、TowerJazz、先鋒國際、上海華虹格蘭特、Dongbu 和 X-Fab。
這個營收數(shù)字不包括那些不單純從事代工業(yè)務(wù)的半導(dǎo)體制造商，它們不僅為其它芯片公司制造芯片，還生產(chǎn)自家使用的芯片，這類公司包括三星、英特爾、德州儀器和意法半導(dǎo)體。
換而言之，代工業(yè)務(wù)的市場非常龐大，2016 年，臺積電貢獻了應(yīng)用材料公司總營收的 16%。
最重要的是，臺積電表示，目前已經(jīng)有超過三十家客戶積極參與了臺積電的 7nm 工藝技術(shù)，2017 年將有 15 家公司的芯片采用 7nm 工藝流片，在 2017 年第二季度進入風(fēng)險生產(chǎn)階段，并于 2018 年進入批量生產(chǎn)階段。
為什么說這種局面對一些設(shè)備廠商非常重要？因為，過渡到 EUV 光刻技術(shù)后，芯片制造過程將省去目前制造先進工藝芯片所需的許多沉積蝕刻步驟，我在之前的一篇文章中討論過，轉(zhuǎn)換到 EUV 光刻技術(shù)將影響整個半導(dǎo)體供應(yīng)鏈。
下面這張來自 ASML 的圖簡要說明了為什么從多重圖形曝光 DUV 光刻過渡到 EUV 光刻技術(shù)將消除許多沉積和蝕刻步驟。隨著臺積電于 2018 年批量生產(chǎn)基于 EUV 光刻技術(shù)的芯片，僅應(yīng)用材料公司就將于 2017 年損失許多沉積和蝕刻設(shè)備的銷售。
英特爾和臺積電是全球排名前三的半導(dǎo)體制造商，2016 年，英特爾的整體營收約為 563 億美金，臺積電的整體營收為 293 億美金，合并統(tǒng)計，兩家公司的營收占到 2016 年半導(dǎo)體行業(yè)總計 2821 億美金營收的 30.3%。
另外，從資本支出上來看，這兩家公司也位居全球前三名。根據(jù)下表，2017 年英特爾的資本支出將達到 120 億美金，同比增長 25%，而臺積電的資本支出則達到 100 億美金，同比下降 2%。
資本支出的變化可能會對半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中的相關(guān)公司收入產(chǎn)生巨大的影響。在上表中，去年 DRAM 市場的疲弱促使三星和 SK 海力士的資本支出分別減少了 13%和 14%，應(yīng)用材料公司 2016 年在大電流注入設(shè)備市場上的營收就低于 2013 年，因為大電流注入設(shè)備是 DRAM 芯片制造過程中的主要使用設(shè)備。
因此，對像應(yīng)用材料公司這樣的設(shè)備廠商來說，英特爾和臺積電這種大客戶的資本支出高于去年就意味著公司營收的增長，從而可能帶動股價上漲。
我們來看下英特爾 2016 年度 16 位優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商獎獲得者的名單，這份名單中的晶圓設(shè)備制造公司包括：
應(yīng)用材料公司：晶圓制造設(shè)備、備件和服務(wù)
ASML：半導(dǎo)體光刻設(shè)備
日立國際電氣公司：批量熱處理系統(tǒng)
Lam?Research?Corporation：晶圓蝕刻和沉積設(shè)備
東京電子有限公司：涂布機 / 顯影劑，干蝕刻系統(tǒng)，濕蝕刻系統(tǒng)，熱處理系統(tǒng)，沉積系統(tǒng)和測試系統(tǒng)
值得注意的是，前年還入席的 KLA-Tencor 去年缺席了。
再來看看臺積電 2017 年 2 月宣布的卓越表現(xiàn)獎，這次，我還是從 11 家獲獎?wù)咧袉为毘槌隽司A前端設(shè)備制造商。
應(yīng)用材料公司?-?技術(shù)合作
ASM 國際?-?ALD 設(shè)備
EBARA 公司?-?CMP 和電鍍設(shè)備
日立國際電氣公司?-?爐設(shè)備
蘭姆研究公司?-?蝕刻設(shè)備
結(jié)論
2017 年的半導(dǎo)體行業(yè)將走向何方，這又將對設(shè)備廠商產(chǎn)生什么影響？臺積電在 4 月 13 號的投資者會議中聲稱，由于存儲器行業(yè)表現(xiàn)強勁，今年整個半導(dǎo)體行業(yè)的年增長率將達到 7%，剔除掉存儲器之后，其他半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的年增長率僅為 4%。
就在同一天，研究機構(gòu) Gartner 上調(diào)了 2017 年半導(dǎo)體行業(yè)的增長率預(yù)測，至 12.3%，遠遠高于兩個月前預(yù)測的 7.4%。
就我個人而言，我認為臺積電的預(yù)測更為靠譜，因為它畢竟是完全專注于半導(dǎo)體行業(yè)的。
且臺積電向 EUV 光刻技術(shù)的轉(zhuǎn)變對設(shè)備廠商的影響最為明顯，因為它將省掉很多沉積蝕刻設(shè)備的采購，必然會使一部分設(shè)備廠商的銷售受到很大削減。
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