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知識(shí)星球（星球名：芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)，星球號(hào)：63559049）里的學(xué)員問(wèn)：聽光刻的老師傅說(shuō)，光刻膠的旋涂一般會(huì)遵循特定的旋涂曲線規(guī)律，可以介紹下旋涂曲線的相關(guān)知識(shí)嗎？
什么是旋涂曲線？
如上圖，是AZ P4000系列光刻膠的旋涂曲線。旋涂曲線是描述光刻膠在旋涂過(guò)程中，膜厚度隨旋轉(zhuǎn)速度變化的關(guān)系曲線。通過(guò)調(diào)整旋涂速度，可以控制最終沉積在基片上的光刻膠膜厚度。通常來(lái)說(shuō)，旋涂速度越快，沉積的膜厚度越薄，反之亦然。一般來(lái)說(shuō)，不同的光刻膠旋涂曲線是不一樣的。
影響光刻膠膜厚的因素有哪些？
1，旋涂速度，較高的旋涂速度旋的膠更薄，低速則會(huì)導(dǎo)致較厚的膜。
膜厚度與旋轉(zhuǎn)速度的平方根成反比。
2，光刻膠的種類與固含量，就像人有高矮胖瘦，光刻膠也有稠有稀。固含量高，膠稠，相同轉(zhuǎn)速下的厚度更厚。
3，濕度，溫度，這兩個(gè)主要影響光刻機(jī)在旋涂中的蒸發(fā)速度。
4，機(jī)臺(tái)構(gòu)造。比如加蓋與不加蓋，以及蓋子距離旋轉(zhuǎn)臺(tái)的體積等，對(duì)光刻膠的厚度具有巨大影響。
如何確定光刻膠旋涂曲線？
1，供應(yīng)商給
2，自己測(cè)供應(yīng)商給的只是在理想狀態(tài)下，不太精確，但是能得到大概趨勢(shì)?？梢葬槍?duì)自己的情況，再對(duì)具體的旋涂曲線進(jìn)行確定。
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