加入星計(jì)劃，您可以享受以下權(quán)益：

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴(kuò)散
  • 作品版權(quán)保護(hù)
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長期合作伙伴
立即加入

EUV光刻

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點(diǎn)資訊討論

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。

極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。收起

查看更多
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團(tuán)隊(duì)提出了一項(xiàng)全新、大幅簡化的面向極紫外（EUV）光刻機(jī)的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時(shí)，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達(dá)晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。
  • 從大型EUV光刻廠的熱炒聊起
    從大型EUV光刻廠的熱炒聊起
    最近清華的SSMB-EUV光源在網(wǎng)上傳得沸沸揚(yáng)揚(yáng)，大概意思是中國可以通過這個(gè)加速器來產(chǎn)生不同頻率的EUV光源，同時(shí)可以給各種芯片制程來使用，徹底解決光刻機(jī)的技術(shù)壁壘。公眾對這個(gè)話題感興趣，原因還是希望能夠早日突破美國技術(shù)封鎖，對清華的研究充滿信心，希望我國的芯片產(chǎn)業(yè)能夠盡快趕上國際領(lǐng)先水平。至于這個(gè)SSMB技術(shù)的細(xì)節(jié)，我相信絕大部分公眾并無法判斷，即使在專業(yè)的半導(dǎo)體群中，大部分人也說不清楚。
  • 提高數(shù)值孔徑是EUV光刻技術(shù)目標(biāo)之一
    光刻是大規(guī)模集成電路芯片制備的核心工藝環(huán)節(jié)，其中，EUV光刻機(jī)是服務(wù)于7nm 以下制程芯片的設(shè)備。
  • ASML的未來：光明與風(fēng)險(xiǎn)并存
    很少有公司能像ASML那樣，從全球經(jīng)濟(jì)中不斷增加的半導(dǎo)體需求中獲益。
    905
    2021/12/24
  • 半導(dǎo)體｜日本廠商在EUV半導(dǎo)體設(shè)備中市占逐步提升
    CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，極紫外光刻（EUV）在半導(dǎo)體線路的微縮化進(jìn)程中極為重要，在“極紫外光刻曝光”相關(guān)工序中，日本設(shè)備廠家的存在感在逐步提升。荷蘭ASML獨(dú)霸關(guān)鍵曝光設(shè)備市場，日本企業(yè)則在檢測、感光材料涂布、成像等相關(guān)設(shè)備方面占有較高的市場份額。然而，一臺尖端的EUV相關(guān)設(shè)備價(jià)格高昂，對半導(dǎo)體廠家來說是較重的投資負(fù)擔(dān)。長期