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首先簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)一下光刻機(jī)，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體行業(yè)中重中之重的利器，中科院光電所的胡松、賀曉棟在《中科院之聲》發(fā)表的一篇文章中這樣介紹它的重要性：后工業(yè)時(shí)代包括現(xiàn)在的工業(yè) 3.0、工業(yè) 4.0，都以芯片為基礎(chǔ)，光刻機(jī)作為制造芯片的工具，就相當(dāng)于工業(yè)時(shí)代的機(jī)床，前工業(yè)時(shí)代的人手。
五代光刻機(jī)
根據(jù)所使用的光源的改進(jìn)以及工藝的不斷創(chuàng)新，光刻機(jī)經(jīng)歷了五代產(chǎn)品的發(fā)展，其中每次光源的改進(jìn)都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)為何“難產(chǎn)”
盡管中芯國(guó)際表示可以不使用光刻機(jī)，用自研的“N+1”制程工藝就能夠研發(fā)出 7nm 工藝（逼得中芯都直接不用光刻機(jī)了），但 5nm 乃至更先進(jìn)制程工藝芯片產(chǎn)品也是離不開(kāi)光刻機(jī)的。
據(jù)消息稱，華為目前所設(shè)計(jì)的芯片已經(jīng)正式進(jìn)入到了 5nm 時(shí)代，即將在下半年推出的麒麟 1020 芯片就會(huì)采用 5nm 芯片工藝。
此外，近期國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也迎來(lái)好消息:上海微電子公司打破封鎖,研發(fā)出 22nm 光刻機(jī)。雖然與國(guó)外差距還很大，但這也是我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域的先進(jìn)水平。
相信未來(lái)隨著國(guó)產(chǎn)自主研發(fā)的步伐，我們能擺脫對(duì)國(guó)外廠商的依賴，國(guó)產(chǎn)芯片能實(shí)現(xiàn)飛速發(fā)展。但在未來(lái)之前，還有很長(zhǎng)一段路要走。
