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報告丨《第三代半導(dǎo)體之GaN研究框架》

2020/12/22
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5G 通信射頻前端有高頻、高效率等嚴(yán)格要求,數(shù)據(jù)流量高速增長使得調(diào)制解調(diào)難度不斷增加,所需的頻段越多,對射頻前端器件的性能要求也隨之加高;載波聚合技術(shù)的出現(xiàn),更是促使移動基站、智能手機(jī)對射頻前端器件的需求翻倍,給 GaN 發(fā)展帶來新契機(jī)。

GaN 作為一種寬禁帶材料,和硅等傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料相比,能夠在更高壓、更高頻、更高溫度的環(huán)境下運(yùn)行。仍結(jié)構(gòu)上看,Si 是垂直型的結(jié)構(gòu),GaN 是平面型的結(jié)構(gòu),這也使得 GaN 的帶隙遠(yuǎn)大于 Si。

SiC 相比,GaN 在成本斱面表現(xiàn)出更強(qiáng)的潛力,且 GaN 器件是個平面器件,不現(xiàn)有的 Si 半導(dǎo)體巟藝兼容性強(qiáng),這使其更容易不其他半導(dǎo)體器件集成。

GaN 具備帶隙大(3.4eV)、絕緣破壞電場大(2×106V/cm)及飽和速度大(2.7×107cm/s)等 Si 及 GaAs 丌具備的特點。由于容易實現(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu),因此在 LED、半導(dǎo)體激光器、高頻及高功率元器件等領(lǐng)域的應(yīng)用丌斷擴(kuò)大。

目前市場上 GaN 晶體管主流的襯底材料為藍(lán)寶石、SiC 和 Si,GaN 襯底由于工藝、成本問題尚未得到大規(guī)模商用。藍(lán)寶石襯底一般用于制造藍(lán)光 LED,通常采用 MOCVD 法外延生長 GaN。

SiC 襯底一般用于射頻器件,Si 則用于功率器件居多。除了應(yīng)用場景外,晶格失配度、熱膨脹系數(shù)、尺寸和價格都是影響襯底選擇的因素之一。

GaN 射頻器件價格加速下降的原因,一斱面是由于 5G 在我國迅速推廣,產(chǎn)品斱案成熟推勱相關(guān)廠商備貨、擴(kuò)產(chǎn),GaN 射頻器件市場提速。

另一斱面,GaN 射頻器件成本主要集中在 SiC 襯底上,陹著 SiC 生產(chǎn)工藝成熟、生產(chǎn)廠商加大產(chǎn)能投資力度,SiC 襯底價格也將逌步降低。雙重因素推勱 GaN 射頻器件價格加速下降。

GaN 的高頻、高功率、高效率、寬禁帶等特性能很好滿足 5G 基站及通信系統(tǒng)的需求。隨著 5G 的高速収展,通信頻段不斷向高頻拓展,基站和移動終端的數(shù)據(jù)傳輸速率加快,調(diào)制技術(shù)所需的頻譜利用率更高,以及 MIMO 技術(shù)廣泛應(yīng)用,對于半導(dǎo)體材料提出了更高的要求。

GaN 在基站中的應(yīng)用比例持續(xù)擴(kuò)大,市場增速可觀。預(yù)計 2022 年全球 4G/5G 基站市場規(guī)模將達(dá)到 16 億美元,值得關(guān)注的是,用于 5G 毫米波頻段的射頻前端模塊年復(fù)合增長率將達(dá)到 119%,用于 Sub-6GHz 頻段的 M-MIMO PA 器件年復(fù)合增長率將達(dá)到 135%,另外用于 4G 宏的 GaN PA 器件年復(fù)合增長率也將達(dá)到 33%,用于 4G/5G 的小信號器件達(dá)到 16%。

以下是《第三代半導(dǎo)體之 GaN 研究框架》部分內(nèi)容:

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公眾號后臺回復(fù)《第三代半導(dǎo)體之 GaN 研究框架》即可獲得完整報告。

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