加入星計(jì)劃,您可以享受以下權(quán)益:

  • 創(chuàng)作內(nèi)容快速變現(xiàn)
  • 行業(yè)影響力擴(kuò)散
  • 作品版權(quán)保護(hù)
  • 300W+ 專業(yè)用戶
  • 1.5W+ 優(yōu)質(zhì)創(chuàng)作者
  • 5000+ 長期合作伙伴
立即加入

HDPCVD

加入交流群
掃碼加入
獲取工程師必備禮包
參與熱點(diǎn)資訊討論
  • 越制裁,越強(qiáng)大!重要性比肩光刻機(jī)的刻蝕設(shè)備——北方華創(chuàng)
    越制裁,越強(qiáng)大!重要性比肩光刻機(jī)的刻蝕設(shè)備——北方華創(chuàng)
    美日荷相繼加大對華半導(dǎo)體設(shè)備出口限制,國產(chǎn)替代迫在眉睫。盡管中國是全球最大半導(dǎo)體消費(fèi)市場,但本土化缺口明顯,2023 年芯片自產(chǎn)率僅 20%、半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率為 35%、高端刻蝕機(jī)等關(guān)鍵領(lǐng)域國產(chǎn)化率不足 10%。隨著國產(chǎn)晶圓廠的逆勢擴(kuò)張、海外制裁趨緊,本土半導(dǎo)體設(shè)備廠商有望擴(kuò)大份額,預(yù)計(jì)2025年國產(chǎn)化率將達(dá)50%。 前面文章我們分析了國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭之一的中微公司,今天我們繼續(xù)深入研究半導(dǎo)體
    5863
    11/26 12:10
  • HDPCVD的原理
    HDPCVD的原理
    知識星球里的學(xué)員問:麻煩介紹下HDPCVD的具體用途,原理。 什么是HDPCVD? HDPCVD,全名High Density Plasma Chemical Vapor Deposition,即高密度等離子體化學(xué)氣相沉積。它產(chǎn)生的等離子體密度非常高,通常在1011至1012 ions/cm3的量級。相比之下,PECVD的等離子體密度就很低了,在間隔寬度小于0.5μm的情況下,用PECVD填充高的

正在努力加載...