射頻濺射

射頻濺射是利用射頻放電等離子體中的正離子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術。射頻濺射： 用交流電源代替直流電源就構成了交流濺射系統(tǒng)， 由于常用的交流電源的頻率在射頻段（ 5~30MHz ） 所以這種濺射方法稱為射頻濺射。 射頻濺射射頻濺射幾乎可以用來沉積任何固體材料的薄膜，獲得 的薄膜致密、純度高、與基片附著牢固、建設速率大、 工藝重復性好。常用來沉積各種合金膜、磁性膜以及 其他功能膜。

射頻濺射是利用射頻放電等離子體中的正離子轟擊靶材、濺射出靶材原子從而沉積在接地的基板表面的技術。射頻濺射： 用交流電源代替直流電源就構成了交流濺射系統(tǒng)， 由于常用的交流電源的頻率在射頻段（ 5~30MHz ） 所以這種濺射方法稱為射頻濺射。 射頻濺射射頻濺射幾乎可以用來沉積任何固體材料的薄膜，獲得 的薄膜致密、純度高、與基片附著牢固、建設速率大、 工藝重復性好。常用來沉積各種合金膜、磁性膜以及 其他功能膜。收起