對(duì)中國(guó)電子半導(dǎo)體發(fā)展的抑制還有什么漏洞?這是二月中下旬Digital Asia的熱門主題文章。該文直言,在光刻膠持續(xù)供應(yīng)的前提下,中國(guó)本土仍可推進(jìn)晶圓制造與創(chuàng)新,最終在7nm及以下制程上取得突破。隨后,有關(guān)日本對(duì)中國(guó)斷供光刻膠的傳聞開(kāi)始發(fā)酵。最終是否斷供仍未知,但包括容大感光在內(nèi)的本土光刻膠相關(guān)廠商,股價(jià)大漲,也算是一種焦慮的體現(xiàn)。 至于光刻膠的工作原理,首先將其涂抹在襯底上,在光照或輻射作用下溶