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全球不到 10 家,中芯國際四年從 28nm 飛躍至 14nm

2019/10/21
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與非網(wǎng) 10 月 21 日訊,近日中芯國際官方宣布,公司自行研發(fā)的 14nm 制程芯片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),將于 2021 年前后出貨。至此,中芯國際成為全球第九家有能力量產(chǎn) 14nm 芯片的企業(yè)。

14nm 意味著什么?

所謂芯片“nm”的制程數(shù)值,指的是每一款芯片中最小的柵極寬度。

在芯片上數(shù)十億個晶體管結(jié)構(gòu)中,每個晶體管中電流從 Source(源極)流入 Drain(漏級),而其中的 Gate(柵極)相當(dāng)于閘門,主要負(fù)責(zé)控制兩端源極和漏級的通斷。而柵極寬度決定了電流通過時的損耗,柵極越窄、功耗越低,性能越高。

芯片制程工藝的具體數(shù)值,是評價移動設(shè)備性能的關(guān)鍵指標(biāo)。每一款旗艦手機(jī)的發(fā)布,通常都與芯片性能的突破息息相關(guān)。

高通在 2018 年年底發(fā)布的驍龍 855 芯片為例,它采用的是 7nm 制程工藝,集成超過 60 億個晶體管,比高通在 2017 年第一季度推出的驍龍 835(10nm 制程工藝)上的 30 億個晶體管數(shù)量多了 1 倍,性能大漲了 55%,而芯片體積幾乎未變,比直徑約 1.9 厘米的一美分硬幣還小。

目前,許多廠商的主流旗艦機(jī)型如三星 S10、OPPO Reno 和小米 9 等等都應(yīng)用了該款芯片。

對于芯片廠商而言,縮減制程數(shù)值是它們不遺余力去實(shí)現(xiàn)的目標(biāo)。但是,當(dāng)柵極寬度逼近 20nm 時,就會遇到新的技術(shù)瓶頸,導(dǎo)致研發(fā)難度和成本急劇上升:由于柵極過窄,對電流控制能力急劇下降,二氧化硅絕緣層會變得更薄,容易導(dǎo)致電流泄漏。因此,就需要光刻設(shè)備、絕緣材料、芯片柵極改制、FinFET 3D 等新技術(shù)新工藝以突破技術(shù)壁壘。

從制程工藝的發(fā)展情況來看,從 28nm 到 14nm 是一道分水嶺,隨著摩爾定律逐步失效,制作更先進(jìn)制程的芯片需要更長周期,業(yè)界至此也開始兩極分化為具備先進(jìn)制程或是傳統(tǒng)制程的不同技術(shù)能力。

在全球半導(dǎo)體業(yè)中,能實(shí)現(xiàn) 14nm 工藝節(jié)點(diǎn)的企業(yè)不到 10 家,包括英特爾、三星、臺積電、格羅方得、聯(lián)電、東芝、海力士、美光等。

中芯國際 14nm 芯片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),獲得的是成為全球晶圓先進(jìn)制程工藝代工廠的入場券。至此,“中國芯”距離當(dāng)前已經(jīng)量產(chǎn)的最先進(jìn)制程 7nm 僅相差兩代,產(chǎn)品差距縮小到四年之內(nèi)。

四年實(shí)現(xiàn)技術(shù)飛躍

作為中國大陸規(guī)模最大的集成電路芯片制造企業(yè),中芯國際在 2015 年成功量產(chǎn)了 28nm 制程工藝芯片,并在短短四年實(shí)現(xiàn)了從 28nm 到 14nm 的飛躍,而臺聯(lián)電為此耗費(fèi)了整整 5 年。

技術(shù)快速迭代,與中芯國際的高投入密切相關(guān)。2018 年,中芯國際向荷蘭 ASML 訂購了一套 EUV 設(shè)備(極紫外線光刻機(jī)),據(jù)傳是當(dāng)時最昂貴和最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)工具,價值高達(dá) 1.2 億美元,2019 年初,這一設(shè)備已經(jīng)如期交付。

據(jù) ASML 官網(wǎng)介紹,這臺價值 1.2 億美元的設(shè)備,能夠支持精細(xì)到 5nm 工藝節(jié)點(diǎn)的批量生產(chǎn),擁有每小時 155 片的 300mm 尺寸晶圓雕刻能力。這為中芯國際成功實(shí)現(xiàn) 14nm 量產(chǎn)提供了關(guān)鍵設(shè)備支撐。在頂尖光刻設(shè)備的加持之下,可以想見,中芯國際距離 12nm、10nm 甚至 7nm 的時代也不會太遙遠(yuǎn)。

另一個讓中芯國際實(shí)現(xiàn)四年快速技術(shù)跨越的關(guān)鍵,在于“靈魂人物”新任聯(lián)席 CEO 梁孟松。

梁孟松曾經(jīng)帶領(lǐng)臺積電和三星分別突破了 28nm 以及 14nm 大關(guān)。在臺積電的 17 年中,梁孟松為臺積電創(chuàng)造了 500 項(xiàng)專利,對于臺積電每一世代制程項(xiàng)目,梁孟松都是作為參與者或者負(fù)責(zé)人。2011 年,梁孟松以研發(fā)部總經(jīng)理、圓晶代工副總的身份加入了三星半導(dǎo)體。在他加入三星之后,三星在 2015 年早于臺積電達(dá)成了 14nm 技術(shù)成就,并借此獲得了代工蘋果 A9 芯片的訂單。

2017 年,梁孟松辭去了在三星的一切職務(wù)加入了中芯國際,他迅速帶領(lǐng)中芯國際在 2019 年初成功量產(chǎn)了第一顆 14nm“中國芯”,如今實(shí)現(xiàn)了超過 95%的良率,進(jìn)展速度超過預(yù)期。

除了 14nm 芯片之外,中芯國際 12nm 也已經(jīng)進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段,如果進(jìn)度順利,預(yù)計年底會有幾家客戶進(jìn)行流片,新一代的 FinFET 的生產(chǎn)線也在推進(jìn)之中。

AIoT 時代最具價值的制程

據(jù)公開報道,中芯國際 14nm 芯片目前已有超過 10 個流片客戶,其中有車用芯片客戶流片,并通過了車用標(biāo)準(zhǔn) Grade 1 的測試門檻,眾所周知,車用市場對芯片品質(zhì)門檻要求最高。

對于全球大型芯片制造廠商而言,28nm 芯片技術(shù)已經(jīng)非常成熟,產(chǎn)能顯得有些過剩。而在另一端,10nm 以下制程技術(shù)則非常尖端,行業(yè)玩家只剩下金字塔尖的臺積電、三星和英特爾。

而居于兩者中間位置的 14nm 顯然成為了中堅力量,成為絕大多數(shù)中高端芯片的主要制程。

有數(shù)據(jù)統(tǒng)計,在 2019 年上半年,整個半導(dǎo)體銷售市場規(guī)模約為 2000 億美元,其中 65%芯片采用 14nm 制程工藝,僅 10%左右的芯片采用 7nm,25%左右采用 10nm 和 12nm,14nm 可以說是當(dāng)下應(yīng)用最廣泛、最具市場價值的制程工藝。

隨著 5G 和 AIoT 時代的到來,特別是在智慧城市、自動駕駛、安防物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域各項(xiàng)產(chǎn)品日趨豐富,芯片也逐漸專注于針對特殊場景的優(yōu)化,專用芯片即將迎來“百花齊放”的物種大爆發(fā)時代,廣泛的 AIoT 場景,將讓 14nm 制程的芯片擁有龐大的市場空間。

目前,國內(nèi)已經(jīng)有超過 20 家企業(yè)投入 AI 芯片的研發(fā)中來。而中芯國際對于關(guān)鍵制程的把控,意味著國內(nèi)芯片設(shè)計企業(yè)和 AI 公司在應(yīng)用 14nm 芯片產(chǎn)品方面獲得更多的自主能力,從而實(shí)現(xiàn)真正完全的“中國智造”。

雖說與目前最先進(jìn)的研發(fā)階段 5nm 芯片仍存在很大差距,但突破 14nm 技術(shù)難關(guān)對中芯國際甚至是全國科技發(fā)展來說都具有非凡的意義。從技術(shù)上來說。14nm 是一個重要瓶頸,傳統(tǒng)的制作工藝至 14nm 已基本失效,14nm 芯片的制作技術(shù)對傳統(tǒng)工藝來說是完全不同的、創(chuàng)新的,同樣也是可延續(xù)的。突破 14nm 芯片的技術(shù)瓶頸,意味著我們掌握了制造 5nm 芯片的核心技術(shù),成功躋身臺積電、三星和英特爾以下的芯片制造第二梯隊,為我國進(jìn)軍高科技強(qiáng)國取得一張入場券。

與第一梯隊的 7nm 技術(shù)相比,我們從無到有,把科技力量差距從落后一個世紀(jì)追趕到現(xiàn)今落后四年以內(nèi),相信我們的科研團(tuán)隊一定能追趕上去,創(chuàng)造有一個中國奇跡。

中芯國際

中芯國際

中芯國際集成電路制造有限公司于2000年4月3日根據(jù)開曼群島法例注冊成立。2004年3月18日,中芯國際在香港聯(lián)合交易所主板上市。2020年7月16日,中芯國際在上海證券交易所科創(chuàng)板鳴鑼上市。中芯國際主要業(yè)務(wù)是根據(jù)客戶本身或第三者的集成電路設(shè)計為客戶制造集成電路芯片。中芯國際是純商業(yè)性集成電路代工廠,提供 0.35微米到14納米制程工藝設(shè)計和制造服務(wù)。

中芯國際集成電路制造有限公司于2000年4月3日根據(jù)開曼群島法例注冊成立。2004年3月18日,中芯國際在香港聯(lián)合交易所主板上市。2020年7月16日,中芯國際在上海證券交易所科創(chuàng)板鳴鑼上市。中芯國際主要業(yè)務(wù)是根據(jù)客戶本身或第三者的集成電路設(shè)計為客戶制造集成電路芯片。中芯國際是純商業(yè)性集成電路代工廠,提供 0.35微米到14納米制程工藝設(shè)計和制造服務(wù)。收起

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