IWAPS 2023 | 第七屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)舉辦時(shí)間通知

第七屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)

（IWAPS 2023）

近年來，集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為世界各國(guó)越來越重視的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，尤其在中國(guó)，集成電路產(chǎn)業(yè)受到了前所未有的關(guān)注，并在政策和資本的推動(dòng)下獲得了蓬勃發(fā)展?；谶@樣的形勢(shì)，國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)應(yīng)運(yùn)而生。IWAPS為來自國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個(gè)技術(shù)交流平臺(tái)，參會(huì)者可以就材料、設(shè)備、工藝、測(cè)量、計(jì)算光刻和設(shè)計(jì)優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。

自2017年以來，IWAPS已經(jīng)在全國(guó)各地成功舉辦六屆。會(huì)議投稿、會(huì)議報(bào)告與參會(huì)人數(shù)逐年增加，行業(yè)反響熱烈，業(yè)已成為國(guó)內(nèi)高端光刻技術(shù)領(lǐng)域的重要會(huì)議。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收錄，接收論文將被送檢IEEE Xplore與EI。歡迎大家踴躍報(bào)名、投稿！

第七屆IWAPS將于2023年10月26-27日于浙江麗水舉行

歡迎各位學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)屆的朋友蒞臨指導(dǎo)，積極投稿演講

參會(huì)名額有限，有意者請(qǐng)及時(shí)報(bào)名參會(huì)

官網(wǎng)報(bào)名鏈接：

https://www.iwaps.org/cn/index/10

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往屆精彩回顧

IWAPS 2017 北京

IWAPS 2018 廈門

IWAPS 2019 南京

IWAPS 2020 成都

IWAPS 2021 佛山

IWAPS 2022 北京 線上

征稿范圍

i. Optical Lithography

ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

iii. Advanced Patterning Technologies

iv. Metrology, Inspection and Testing

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

往年論文集

IWAPS 2020：

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding

IWAPS 2023 會(huì)議籌備工作已經(jīng)展開

更多信息，敬請(qǐng)關(guān)注會(huì)議官網(wǎng)

www.iwaps.org/cn

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