知識星球(星球名:芯片制造與封測技術(shù)社區(qū),星球號:63559049)里的學員問:ASML的TWINSCAN XT系列的scanner機臺的WPH最高能達到300pcs,為什么Scanner的產(chǎn)能遠遠高于stepper?
什么是stepper和scanner?
sepper,全名步進投影式光刻機。Stepper 每次曝光晶圓上的一小塊區(qū)域,即一個shot,然后晶圓在曝光后移動到下一個區(qū)域,重復此過程,逐步曝光整個晶圓。scanner,全名步進掃描投影式光刻機。
為什么Scanner更快?
這要從其工作原理來入手。
Stepper 每次曝光晶圓上的一小塊區(qū)域,即一個shot,然后只有晶圓在曝光后移動到下一個區(qū)域,掩模版不動重復此過程,逐步曝光整個晶圓。
而Scanner是一個狹長的光束(狹縫光束)投影到晶圓的每個芯片上進行曝光。晶圓在曝光時不斷移動,掩模和晶圓之間向相反方向移動,光束逐步掃描整個晶圓。見視頻:在Scanner中,掩模版和晶圓在曝光時同時移動,減少了曝光過程中的停頓時間。另一方面Scanner在曝光時不需要頻繁地進行對準和定位。這兩個方面使Scanner極大地提高了時間利用率。
哪些機臺會用Scanner的方式?
以ASML的機臺為例,之前的i線光刻機普遍采用的是stepper,現(xiàn)有的DUV,EUV產(chǎn)品均是采用的是Scanner。
歡迎加入我的半導體制造知識星球社區(qū),目前社區(qū)有1900人左右。在這里會針對學員問題答疑解惑,上千個半導體行業(yè)資料共享,內(nèi)容比文章豐富很多很多,適合快速提升半導體制造能力,介紹如下:? ? ?《歡迎加入作者的芯片知識社區(qū)!》