近期,美國國家材料科學研究所(NIMS)團隊研發(fā)了世界上第一個基于金剛石n型溝道驅動的金屬氧化膜半導體場效應晶體管(MOSFET)。該成果對于以普通電子器件IC為代表的單片集成化(在一個半導體基板內集成多個器件),實現(xiàn)其耐環(huán)境型互補式金屬氧化膜半導體(CMOS)集成電路。該研究進展以“High-Temperature and High-Electron Mobility Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors Based on N-Type Diamond”為題發(fā)表在Advanced Science上。這也為金剛石在功率電子學中的應用邁出重要的一步提供了證據(jù)。