干法刻蝕工藝中DC自偏壓的作用？

知識星球（星球名：芯片制造與封測技術社區(qū)，星球號：63559049）里的學員問：DC自偏壓是如何產(chǎn)生的？有什么作用？如何測量？

DC自偏壓產(chǎn)生原理？

直流自偏壓是由于等離子體中電子和離子之間的遷移率差異而產(chǎn)生的。電子的質量遠小于離子的質量，因此在射頻電場作用下，電子能夠快速移動到電極（晶圓）表面積累，導致電極（晶圓）表面帶負電，最終在電極（晶圓）與等離子體之間形成一個負的直流偏壓。

DC自偏壓的作用？

1，加速正離子。直流自偏壓使得正離子（如Ar+）加速流向電極表面（如晶圓），離子轟擊能量增加。通過調節(jié)自偏壓的大小，可以控制離子轟擊能量，從而調節(jié)蝕刻速率。2，增強各向異性。較高的離子轟擊能量使得蝕刻過程主要發(fā)生在垂直方向，形成各向異性刻蝕，有助于在垂直方向上實現(xiàn)深刻蝕。直流偏壓的大小主要取決于下電極的射頻功率，因此下電極的射頻功率對刻蝕的效果影響較大。等等

DC自偏壓如何表征？

當晶圓是良好的導體（如硅）并且與電極接觸時，電極上也存在相同的直流電壓?？梢詼y量該電極電壓，就能得到自偏壓數(shù)據(jù)。當晶圓是不導電的材料，如藍寶石，石英襯底等，則測量的電極上的電壓將不能反映襯底上的自偏壓。

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