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EUV技術

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  • ASML：EUV技術領域不會面臨中國公司的競爭！
    ASML：EUV技術領域不會面臨中國公司的競爭！
    6月6日消息，ASML首席財務官Roger Dassen近日在 Jefferies證券主持的投資者電話會議上表示，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束，預計在第二季度或第三季度開始獲得“大量” 2nm芯片制造相關設備訂單。同時，Jefferies報告稱臺積電已經訂購了High NA EUV光刻機。
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    06/07 11:25
  • 高NA EUV迎來制程的岔路口
    高NA EUV迎來制程的岔路口
    半導體行業(yè)的領軍企業(yè)正努力爭取進入所謂的“埃時代”（Angstrom era）。在所謂的3nm工藝節(jié)點附近的節(jié)點上，以“埃”而不是以“納米”來命名技術節(jié)點成為了一種時尚，因此不是1.5nm，而是15埃。正是在這一點上，對晶圓上更精細圖案的要求超出了當今EUV光刻系統(tǒng)和程序的能力。
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    04/23 10:40
  • Q1營收下滑21%！ASML：可繼續(xù)為在華設備提供售后服務！
    Q1營收下滑21%！ASML：可繼續(xù)為在華設備提供售后服務！
    2024年4月17日，光刻機大廠ASML發(fā)布了2024年第一季度財報。2024年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額52.90億歐元，同比下降21%，處于預測營收區(qū)間的中間值；毛利率為51.0%，高于此前預計的48%至49%；凈利潤達12.24億歐元，同比下降38%。新增訂單金額為 36 億歐元，其中6.56 億歐元訂單來自EUV。
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    04/19 10:20
  • 英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產，“四年五個制程節(jié)點”計劃又進一步
    英特爾宣布Intel 4已大規(guī)模量產，“四年五個制程節(jié)點”計劃又進一步
    近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規(guī)模量產（HVM）Intel 4制程節(jié)點。Intel 4大規(guī)模量產的如期實現(xiàn)，再次證明了英特爾正以強大的執(zhí)行力推進“四年五個制程節(jié)點”計劃，并將其應用于新一代的領先產品，滿足AI推動下“芯經濟”指數級增長的算力需求。
  • 分析丨DRAM技術受阻，如何走出瓶頸？
    從DRAM誕生至今，行業(yè)已經擁有3家1X節(jié)點的制造商，其存儲容量超過4Gb，他們仍在制造具有相同配置的存儲單元。