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本屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)被IEEE收錄
會(huì)議投稿論文將送檢IEEE Xplore與EI
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摘要提交截止日期: ?2022.07.15
摘要接收通知日期: ?2022.08.15
全文稿件截止日期: ?2022.09.30
報(bào) 名 入 口
論 文 征 集
IWAPS致力于發(fā)表前沿的微電子制造技術(shù)研究成果。會(huì)議主題涵蓋先進(jìn)半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中從早期的理論和實(shí)驗(yàn)，到工業(yè)化大規(guī)模量產(chǎn)的應(yīng)用等內(nèi)容。包括但不局限于:
- 光刻
- 極紫外光刻?
- 新型技術(shù)
- 量測(cè)及缺陷檢測(cè)
- 設(shè)計(jì)工藝聯(lián)合優(yōu)化與可制造性設(shè)計(jì)
- 材料
- 工藝
會(huì)議投稿請(qǐng)?zhí)峤恢拎]箱：
iwaps_program@ime.ac.cn
本屆會(huì)議被IEEE收錄
論文將被送檢IEEE Xplore及EI
我們會(huì)在全文版本送檢IEEE Xplore與EI的同時(shí)將推薦優(yōu)秀論文到《Journal of Microelectronic Manufacturing》期刊，作者可以對(duì)會(huì)議全文擴(kuò)充理論或?qū)嶒?yàn)內(nèi)容后投稿到期刊。
摘要必須清楚地描述論文的性質(zhì)、研究主題、研究?jī)?nèi)容、組織結(jié)構(gòu)、要點(diǎn)以及研究意義。且用英文撰寫。
摘要必須包括以下內(nèi)容：論文標(biāo)題、關(guān)鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字?jǐn)?shù)不應(yīng)超過500個(gè)單詞。對(duì)研究?jī)?nèi)容的細(xì)節(jié)的描述將增加稿件被接收的可能。同時(shí)，我們建議在提交的摘要中使用圖表。
論文摘要模板下載地址：
https://www.iwaps.org/index/10
在截止日期之后提交的摘要將根據(jù)具體情況進(jìn)行審議。
報(bào) 告 要 求
- 口頭報(bào)告
被選作進(jìn)行口頭報(bào)告的作者，應(yīng)當(dāng)參加2022年的IWAPS 會(huì)議并用英文進(jìn)行15分鐘與論文相關(guān)的技術(shù)報(bào)告。演講者應(yīng)當(dāng)預(yù)先提供其會(huì)議報(bào)告的PPT。
- 海報(bào)展示
被選作進(jìn)行海報(bào)展示的作者，可于會(huì)議周期內(nèi)進(jìn)行電子海報(bào)的展示與講解。
會(huì) 議 介 紹
近年來，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展，基于這樣的形勢(shì)，國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)應(yīng)運(yùn)而生。IWAPS為來自國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個(gè)技術(shù)交流平臺(tái)，參會(huì)者可以就材料、設(shè)備、工藝、測(cè)量、計(jì)算光刻和設(shè)計(jì)優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。
本屆國(guó)際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)已被IEEE收錄，會(huì)議全文將送檢IEEE Xplore與EI。
主 辦 單 位
承 辦 單 位
協(xié) 辦 單 位
技 術(shù) 支 持
組 委 會(huì)
2017年IWAPS在北京
2018年IWAPS在廈門
2019年IWAPS在南京
2020年IWAPS在成都
2021年IWAPS在佛山
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