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昨天發(fā)布了設(shè)備電源、離子源的供應(yīng)商數(shù)據(jù)，我正考慮接下來發(fā)布什么數(shù)據(jù)時(shí)，就有我知識星球的會員私信向我要CVD設(shè)備的供應(yīng)商數(shù)據(jù)
好吧，那我就整理發(fā)布一下吧，順便把ALD的也一并發(fā)布了
之前看到過網(wǎng)上流傳的外媒整理的各類半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代難度的分布圖，當(dāng)時(shí)我就有個(gè)沖動，就按照這個(gè)圖里的信息把每個(gè)種類設(shè)備的全球供應(yīng)商都梳理一遍
不過，這個(gè)原作者似乎也不是特別專業(yè)。在圖里把所有的CVD設(shè)備都?xì)w為一類，而且有些想當(dāng)然地把替代難度設(shè)置得非常低 ...
事實(shí)上，CVD也就是化學(xué)氣相淀積（Chemical Vapor Deposition）的技術(shù)路徑非常多，而且各自的應(yīng)用領(lǐng)域和技術(shù)門檻都完全不一樣。歸到一類有些太莽撞了
我的數(shù)據(jù)表格里把CVD做了相對細(xì)致的分類，當(dāng)然也不能說非常全面。下面是各種CVD/ALD技術(shù)種類的中英文名稱表。大家可以參考一下：
化學(xué)氣相淀積 CVD Chemical Vapor Deposition
常壓CVD APCVD Atmospheric pressure CVD
準(zhǔn)常壓CVD SACVD Sub-atmospheric CVD
低壓CVD LPCVD Low Pressure CVD
超低壓CVD UHVCVD Ultra-High Vacuum CVD
等離子增強(qiáng)CVD PECVD Plasma Enhanced CVD
高密度等離子CVD HDPCVD High-density Plasma CVD
金屬有機(jī)CVD MOCVD Metalorganic CVD
等離子輔助MOCVD PA-MOCVD Plasma Activated Metalorganic CVD
混合物理化學(xué)氣相沉積 HPCVD Hybrid Physical–chemical Vapor Deposition
快速熱處理CVD RTCVD Rapid Thermal CVD
激光CVD LCVD Laser CVD
直接液體注入CVD/ALD DLI-CVD/ALD Direct Liquid Injection CVD/ALD
FCVD Flowable CVD
原子層沉積 ALD Atomic-layer Deposition
按照我目前整理的分類，我收集到了全球88家供應(yīng)商的產(chǎn)品數(shù)據(jù)，供大家參考
注）這個(gè)只是半導(dǎo)體領(lǐng)域的供應(yīng)商名單。其它工業(yè)領(lǐng)域也會用到CVD、ALD設(shè)備，但這些就不在我的統(tǒng)計(jì)范圍內(nèi)了
大家參考一下，有問題歡迎和我交流
我把前道晶圓制造設(shè)備分成了11個(gè)大類（光刻、涂膠顯影、CVD、PVD、其它成膜、離子注入、熱處理、干法、濕法、CMP、檢測量測）。每一個(gè)大類我都已經(jīng)按照上表的形式做了更細(xì)致分類?？偣彩占?strong>366家供應(yīng)商，都按照細(xì)致產(chǎn)品分類打了標(biāo)簽
整張表格完全展開后的截圖如下（每一種顏色代表一大類設(shè)備）。圖實(shí)在太大了， 所以縮小圖根本看不清楚 ...
上圖左側(cè)箭頭所指紅框內(nèi)的分類標(biāo)簽放大后如下：
大家如果對這些數(shù)據(jù)感興趣，歡迎來我的知識星球獲取原始EXCEL文檔
我收集了近十年的行業(yè)數(shù)據(jù)已經(jīng)覆蓋了大半個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈，還有大量的原創(chuàng)行業(yè)景氣度數(shù)據(jù)分析和研報(bào)?，F(xiàn)在所有數(shù)據(jù)原始文檔都放到云盤上，給你個(gè)一鍋端走的機(jī)會（云盤直接同步我電腦硬盤，隨時(shí)更新）原價(jià)2198元，折后僅需要1598元（特別說明：平臺可以開發(fā)票）
