半導(dǎo)體CMP耗材供應(yīng)商列表

半導(dǎo)體材料，尤其是前道的耗材一直是目前一級市場投資機(jī)構(gòu)比較關(guān)心和熱衷的方向。所以，我也打算整理一些這方面的數(shù)據(jù)供大家參考今天我打算把之前整理的CMP耗材的供應(yīng)商數(shù)據(jù)更新發(fā)布一下

CMP工序中主要用到的耗材有以下5種：

• 研磨漿料 Slurry
• 研磨墊 Pad
• 清洗液?pCMP Clean
• 修正盤?Conditioner
• 過濾器 Filter

目前國內(nèi)相對欠缺最大的領(lǐng)域還是Slurry，雖然已經(jīng)有不少公司在做了，但前道高端領(lǐng)域依舊被日本幾家供應(yīng)商壟斷，短期內(nèi)突破很難。其上游的原材料主要有：

磨料：二氧化硅、二氧化鈰、三氧化二鋁（根據(jù)研磨對象材料不同而定）添加劑：pH調(diào)節(jié)劑、氧化劑、表面活性劑等Pad這塊，國內(nèi)鼎龍、江豐等公司已經(jīng)有一定的出貨量了。其上游原材料主要是：

聚氨酯、無紡布、發(fā)泡劑等修正盤目前國內(nèi)一般是研磨墊供應(yīng)商同時(shí)做了。國內(nèi)市場上外資供應(yīng)商中韓國Saesol據(jù)說市占率較大過濾器這塊供應(yīng)商比較集中，國外主要是Entegris和PALL，國內(nèi)是科百特一家獨(dú)大，還有一家我名字忘了，麻煩有知道的朋友提醒我一下，謝謝

以下是所有我知道的供應(yīng)商的列表。麻煩大家參考的同時(shí)，也幫我看看還有哪些錯(cuò)漏。發(fā)現(xiàn)任何問題，請務(wù)必和我聯(lián)系，謝謝支持了