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比較函數(shù)compare()縮寫cmp。compBinary function that accepts two elements in the range as arguments, and returns a value convertible to bool. The value returned indicates whether the element passed as first argument is considered to go before the second in the specific strict weak ordering it defines.The function shall not modify any of its arguments.This can either be a function pointer or a function obje

比較函數(shù)compare()縮寫cmp。compBinary function that accepts two elements in the range as arguments, and returns a value convertible to bool. The value returned indicates whether the element passed as first argument is considered to go before the second in the specific strict weak ordering it defines.The function shall not modify any of its arguments.This can either be a function pointer or a function obje收起

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    在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,離子注入和超聲波技術(shù)作為中國半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展的兩大驅(qū)動力,正助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更高端、更先進的方向邁進。近期,行業(yè)內(nèi)波瀾涌動,傳來兩大重磅事件:一邊是華海清科擬通過收購芯崳公司加速布局離子注入機,有望攻克離子注入機這一關(guān)鍵設(shè)備的潛在壁壘;另一邊,半導(dǎo)體超聲設(shè)備企業(yè)驕成超聲總部基地開工,預(yù)示著在半導(dǎo)體超聲應(yīng)用方面將邁向新臺階。
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    09/13 16:30
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    在半導(dǎo)體制造過程中,化學(xué)機械拋光(CMP)是一項至關(guān)重要的技術(shù)。CMP技術(shù)的出現(xiàn)和發(fā)展使得制造更小、更復(fù)雜的芯片成為可能。在單晶硅片的制造過程中,化學(xué)機械拋光(CMP)技術(shù)在前半制程中扮演著至關(guān)重要的角色,并且需要多次應(yīng)用。相較于傳統(tǒng)的機械拋光方法,CMP技術(shù)不僅能夠?qū)崿F(xiàn)硅片表面的更高平整度,還因其較低的成本和簡便的操作流程,已經(jīng)發(fā)展成為目前半導(dǎo)體材料表面平整處理的主流技術(shù)。
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  • 晶圓制造CMP工程師面試干貨小結(jié)
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    感謝國內(nèi)某知名Fab廠工作6年的張工對CMP面試問題的解答。CMP(化學(xué)機械拋光)工藝是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟之一,它結(jié)合了化學(xué)腐蝕和機械磨削,旨在實現(xiàn)晶圓表面的全局平坦化。