光刻機(jī)

今年，ASML的High NA EUV光刻機(jī)成為設(shè)備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標(biāo)準(zhǔn) EUV 光刻機(jī)的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進(jìn)制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺(tái)積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。

各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開(kāi)激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。

第十四屆中國(guó)國(guó)際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（簡(jiǎn)稱(chēng)“納博會(huì)”）在萬(wàn)眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場(chǎng)全球納米科技領(lǐng)域盛會(huì)，以1場(chǎng)主報(bào)告、13場(chǎng)分論壇、1場(chǎng)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場(chǎng)新產(chǎn)品發(fā)布會(huì)為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機(jī)構(gòu)的頂級(jí)專(zhuān)家代表出席，分享專(zhuān)業(yè)報(bào)告476場(chǎng)，較往屆增加132場(chǎng)，同比增長(zhǎng)約33%，吸引9663位嘉賓參會(huì)聽(tīng)會(huì)。

在所有半導(dǎo)體設(shè)備里，光刻機(jī)確實(shí)是一個(gè)最有話題熱度的門(mén)類(lèi)了。我之前從ASML、NIKON、CANON三家的官網(wǎng)上下載收錄了他們目前銷(xiāo)售的光刻機(jī)型號(hào)，并匯總做成表格供大家參考，讀者反饋不錯(cuò)。更有行業(yè)大佬寫(xiě)文章時(shí)引用我的數(shù)據(jù)后更是給我的公眾號(hào)帶來(lái)一波巨大流量。

近日，ASML發(fā)布最新三季度財(cái)報(bào)后，股價(jià)創(chuàng)26年來(lái)最大跌幅引起市場(chǎng)極大關(guān)注。在此期間，尼康和佳能陸續(xù)發(fā)布的光刻機(jī)研發(fā)最新進(jìn)展也引起行業(yè)聚焦。