拓荊科技

拓荊科技股份有限公司成立于2010年4月，是國家高新技術(shù)企業(yè)，主要從事半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術(shù)服務(wù)。公司多次獲評中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會授予的“中國半導(dǎo)體設(shè)備五強企業(yè)”稱號。公司在北京、上海、海寧、沈陽和美國成立子公司。收起展開全部

產(chǎn)業(yè)鏈半導(dǎo)體半導(dǎo)體設(shè)備收起展開全部

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先進邏輯和3D存儲的希望，PECVD、晶圓鍵合龍頭——拓荊科技
隨著集成電路制造不斷向更先進工藝發(fā)展，單位面積集成的電路規(guī)模不斷擴大，芯片內(nèi)部立體結(jié)構(gòu)日趨復(fù)雜，所需要的薄膜層數(shù)越來越多，對絕緣介質(zhì)薄膜、導(dǎo)電金屬薄膜的材料種類和性能參數(shù)不斷提出新的要求。在 90nm CMOS 工藝，大約需要 40 道薄膜沉積工序。在 3nmFinFET 工藝產(chǎn)線，需要超過 100 道薄膜沉積工序，涉及的薄膜材料由 6 種增加到近 20 種，對于薄膜顆粒的要求也由微米級提高到納

王兵

4269

12/10 09:18

與非研究院 CVD

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