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內(nèi)容精要：在半導(dǎo)體領(lǐng)域，晶圓制造可以靠砸錢堆產(chǎn)線，IC 設(shè)計(jì)需求足夠多樣也能夠多點(diǎn)突破，封測(cè)行業(yè)已經(jīng)相對(duì)非常成熟……唯獨(dú)設(shè)備和材料領(lǐng)域，由于設(shè)備精度、材料純度的要求特別高，半導(dǎo)體設(shè)備更是被稱為整個(gè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基石，國(guó)內(nèi)企業(yè)還處于蓄勢(shì)待發(fā)、亟待突破的狀態(tài)。
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2014 年國(guó)家集成電路大基金成立以來(lái)，圍繞晶圓制造、IC 設(shè)計(jì)和封測(cè)做了千億規(guī)模的投資，加上科創(chuàng)板為項(xiàng)目退出渠道帶來(lái)了很高的預(yù)期、特朗普的神助攻，整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)在過(guò)去幾年一片熱火朝天的景象。
2019 年 10 月的時(shí)候，國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期正式成立，注冊(cè)資本 2041.5 億元。據(jù)行業(yè)普遍預(yù)期，大基金二期將在一期重點(diǎn)領(lǐng)域的基礎(chǔ)上進(jìn)一步延伸，有望向半導(dǎo)體設(shè)備與材料傾斜。
在半導(dǎo)體領(lǐng)域，晶圓制造可以靠砸錢堆產(chǎn)線，IC 設(shè)計(jì)需求足夠多樣也能夠多點(diǎn)突破，封測(cè)行業(yè)已經(jīng)相對(duì)非常成熟……唯獨(dú)設(shè)備和材料領(lǐng)域，由于設(shè)備精度、材料純度的要求特別高，半導(dǎo)體設(shè)備更是被稱為整個(gè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基石，國(guó)內(nèi)企業(yè)還處于蓄勢(shì)待發(fā)、亟待突破的狀態(tài)。
中芯國(guó)際的 7nmEUV 光刻機(jī)至今還沒(méi)到貨，雖然吃瓜群眾時(shí)不時(shí)發(fā)個(gè)自媒體消息，光刻機(jī)裝船到港了，但也無(wú)非撩撥一下愛(ài)國(guó)群眾的熱情而已……足以可見(jiàn)我們?cè)诎雽?dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的被動(dòng)局面。
今天要討論的兩家企業(yè)，都是國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的龍頭，中微公司和北方華創(chuàng)。
昨天北方華創(chuàng)公布 2019 年年報(bào)。10 天前，中微公司也公布了年報(bào)。至此，兩家公司 2019 年業(yè)績(jī)?nèi)嬲宫F(xiàn)在投資者面前。
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首先看一下兩家公司在各級(jí)市場(chǎng)的表現(xiàn)，中微公司在科創(chuàng)板上市，是首批科創(chuàng)板上市企業(yè)之一；北方華創(chuàng)上市時(shí)間要早的多，2010 年就在深圳中小板上市。
從估值角度看，北方華創(chuàng)估值水平要明顯低于中微公司，但由于中微公司作為一個(gè)剛上市的新貴，市場(chǎng)對(duì)其未來(lái)增長(zhǎng)空間普遍寄予厚望，給予較高的估值溢價(jià)也相對(duì)合理。
整體看兩家公司在過(guò)去四年當(dāng)中的增長(zhǎng)情況，都表現(xiàn)不俗。
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北方華創(chuàng)和中微公司，一北一南，被業(yè)界稱為”北廣南?！啊杉夜镜漠a(chǎn)品有重疊，但也各有優(yōu)勢(shì)。
北方華創(chuàng)的設(shè)備占據(jù) IC、LED、LCD、光伏四大領(lǐng)域，而中微公司則主要聚焦于 IC 與 LED 領(lǐng)域。
圖：方正證券
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從產(chǎn)品類別來(lái)看，晶圓制造設(shè)備中主要的設(shè)備包括光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備等市場(chǎng)規(guī)模占比分別為 30%、20%和 25%。
光刻機(jī)短時(shí)間內(nèi)國(guó)內(nèi)很難突破，北方華創(chuàng)和中微公司占了很好的段位，涵蓋市場(chǎng)空間廣闊的兩大類，包括刻蝕機(jī)和薄膜沉積設(shè)備。
在刻蝕設(shè)備領(lǐng)域，介質(zhì)刻蝕機(jī)和硅刻蝕機(jī)為最主要的刻蝕設(shè)備，兩者市占率達(dá) 95%，市場(chǎng)份額相當(dāng)。
兩家產(chǎn)品各有差異，北方華創(chuàng)重心在硅刻蝕，設(shè)備主要用于刻蝕硅的應(yīng)用，而中微公司重心在介質(zhì)刻蝕，設(shè)備主要用于介質(zhì)刻蝕的應(yīng)用，介質(zhì)主要為二氧化硅。
圖：西南證券
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中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國(guó)際一線客戶從 65 納米到 14 納米、7 納米和 5 納米的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。
薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域，北方華創(chuàng)重心在 PVD 和 PECVD，應(yīng)用于集成電路、照明和光伏等領(lǐng)域，而中微公司重心在 MOCVD，主要用于氮化鎵基及砷化鎵基半導(dǎo)體材料外延生長(zhǎng)。
中微公司的 MOCVD 設(shè)備在行業(yè)領(lǐng)先客戶的生產(chǎn)線上大規(guī)模投入量產(chǎn)，公司已成為世界排名前列的氮化鎵基 LED 設(shè)備制造商。
圖：中微公司 MOCVD 設(shè)備
