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[摘要] 為成功開發(fā)產(chǎn)品，物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 設(shè)計(jì)與幾個(gè)設(shè)計(jì)領(lǐng)域進(jìn)行了緊密結(jié)合。每個(gè)設(shè)計(jì)領(lǐng)域都具有挑戰(zhàn)性。結(jié)合所有設(shè)計(jì)領(lǐng)域共同創(chuàng)建 IoT 產(chǎn)品，可能會對設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)帶來極大的壓力。Tanner設(shè)計(jì)流程的旨在采用集成設(shè)計(jì)、仿真、版圖布局和驗(yàn)證的設(shè)計(jì)

用于模擬／混合信號 (AMS) 設(shè)計(jì)和驗(yàn)證的PDK

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[摘要] PDK 即流程設(shè)計(jì)套件，本質(zhì)上是EDA工具與半導(dǎo)體制造工藝之間的接口，描述了工藝的電氣、合格率和性能等方面。PDK 的主要優(yōu)點(diǎn)是可以縮短整個(gè)設(shè)計(jì)時(shí)間。它通過確保設(shè)計(jì)遵循特定的工藝規(guī)則減少后端工序的時(shí)間。從全局來看，PDK有助

LVS 盒處理可幫助設(shè)計(jì)師迅速完成出色設(shè)計(jì)

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[摘要] 在IC設(shè)計(jì)驗(yàn)證過程中，如何既保持原有的設(shè)計(jì)版圖和層次結(jié)構(gòu)，同時(shí)又滿足客戶對設(shè)計(jì)流程性能更好更快的一貫要求，無疑是設(shè)計(jì)人員面臨的一項(xiàng)重大挑戰(zhàn)。設(shè)計(jì)師必須始終在性能、數(shù)據(jù)大小和準(zhǔn)確性之間進(jìn)行權(quán)衡。早在設(shè)計(jì)之初，采用Calibre nmLV

多重曝光簡介

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[摘要] 利用多重曝光可在當(dāng)今最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)上獲得精確的光刻分辨率。了解此技術(shù)的基礎(chǔ)知識，以及它對您的IC設(shè)計(jì)和驗(yàn)證任務(wù)與職責(zé)帶來的影響。

模擬設(shè)計(jì)與圖形匹配：絕佳搭配

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[摘要] 盡管自動(dòng)化圖形匹配在數(shù)字集成電路物理驗(yàn)證中廣泛使用，但其在模擬領(lǐng)域的采用則要遲緩得多。事實(shí)上，自定義模擬電路的本質(zhì)使其非常適合于自動(dòng)化圖形匹配技術(shù)所提供的一些新型物理驗(yàn)證技術(shù)，從而讓設(shè)計(jì)師在確保設(shè)計(jì)質(zhì)量的同時(shí)還能減少驗(yàn)證時(shí)間。通過采用

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