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有關(guān) High-Level Synthesis (HLS) 的 NVIDIA 案例分析

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[摘要] 通過采用應(yīng)用Mentor Graphics Catapult®的C++ High-Level Synthesis (HLS)流程，NVIDIA®能夠?qū)⒋a簡化5倍，將回歸測試所需的CPU數(shù)量減少1000倍，并且運行多達

馴服猛獸：低功耗設(shè)計和驗證中的調(diào)試挑戰(zhàn)

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[摘要] 在芯片開發(fā)過程中，調(diào)試就要耗費50%左右的開發(fā)時間和精力，這是一個不爭的事實。調(diào)試被認為是半導(dǎo)體芯片設(shè)計與驗證行業(yè)面臨的最棘手挑戰(zhàn)之一。本文將全面分析低功耗設(shè)計和驗證面臨的各種復(fù)雜調(diào)試問題。我們將借助相關(guān)示例來說明如何避免或輕松解決這

將圖形匹配與 DFM 屬性進行集成，從而改善和優(yōu)化版圖

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[摘要] 隨著設(shè)計復(fù)雜性和規(guī)模的不斷增長，特別是在最先進的節(jié)點上，圖形匹配的使用已擴展到 DFM 流程中。將 Calibre Pattern Matching 功能與 DFM 操作相結(jié)合，可以給新設(shè)計帶來各種不同的改善和優(yōu)化選擇，包括填充方向、

在物理驗證過程中實現(xiàn)最佳性能

資源大?。?.45MB

[摘要] 物理驗證的生產(chǎn)率是一個多維度目標(biāo)，需要應(yīng)用多種策略和技術(shù)來實踐。IC 設(shè)計公司必須不斷評估其工藝流程、數(shù)據(jù)管理和硬件使用情況，包括與 EDA 供應(yīng)商密切合作以確保實現(xiàn)準確、完整、先進的工具覆蓋率，并整合新的技術(shù)功能來擴展硬件能力和改善

多重曝光中的顏色優(yōu)化注意事項

資源大小：1.7MB

[摘要] 在先進工藝節(jié)點中，要實現(xiàn)最佳性能和良率，需要超越設(shè)計規(guī)則的最低要求來優(yōu)化版圖。任何多重曝光版圖都有多種能通過多重曝光設(shè)計規(guī)則檢查 (DRC) 的著色配置。但是，選擇最佳著色方案可以提高制造良率和設(shè)計性能裕量。了解 Calibre Mu

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