有一個(gè)趨勢(shì)非常明顯……流片變得越來(lái)越困難,需要的時(shí)間也越來(lái)越長(zhǎng)。作為日益壯大的創(chuàng)新性早期設(shè)計(jì)驗(yàn)證技術(shù)套件的一部分,Calibre nmLVS-Recon 工具使設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠快速檢查 “存在問(wèn)題” 和不成熟的設(shè)計(jì),以便更快、更早地發(fā)現(xiàn)并修復(fù)具有重大影響的電路錯(cuò)誤,從而在總體上縮短流片排程和上市時(shí)間。