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自對(duì)齊多重曝光軌道分解技術(shù)
[摘要]

一旦決定使用特定的 SAMP 工藝，設(shè)計(jì)人員就必須確定最佳版圖分解，以生成所需的掩膜版，同時(shí)遵守所有相關(guān)的設(shè)計(jì)規(guī)則。IMEC 和 Siemens Digital Industries Software 共同介紹了生成符合 DRC 要求的軌道（線條）掩膜版的分解要求和技術(shù)。Calibre 多重曝光工具不僅可以自動(dòng)執(zhí)行分解過程，還能幫助設(shè)計(jì)人員在繪制的目標(biāo)形狀無法正確生成軌道掩膜版時(shí)更快、更準(zhǔn)確地調(diào)試錯(cuò)誤。
資源類型：pdf
資源大?。?/span>887.58KB
所屬分類：白皮書
Siemens Digital Industries Software簡(jiǎn)介
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